Bi-2212薄膜における不可逆磁界の厚み依存性
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概要
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- 2001-11-23
著者
-
安田 敬
九工大情報
-
安田 敬
九州工大 情報工
-
松下 照男
九工大・情報工
-
小田部 荘司
九工大・情報工
-
和田 浩志
九工大・情報工
-
井口 家成
東京工業大学大学院理工学研究科物性物理学専攻
-
井口 家成
東大工理
-
井口 家成
東工大理
-
安田 敬
九工大・情報工
-
内山 哲治
東工大・理工
-
井口 家成
東工大・理工
-
王 鎮
通総研
-
王 鎮
通信総合研究所関西先端研究センター
-
内山 哲治
東工大・理
-
内山 哲治
東京工業大学大学院理工学研究科物性物理学専攻
-
井口 家成
<東工大理>
-
井口 家成
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研
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