ガスフロースパッタ法による高い光触媒活性を有するTiO_2膜の高速堆積(電子部品・材料, 及び一般)

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概要

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ガスフロースパッタ法を用いることにより、高い光触媒活性を有するTiO_2薄膜を作製することができた。ガスフロースパッタ法とは、100Pa程度の高い圧力下で高速の成膜が行えるスパッタ法であり、PVDとCVDの両者の特徴を兼ね備えた成膜法である。本研究では、純チタンのパイプ状のターゲットを用い、酸素ガスを基板面上に直接加えることにより、安定なスパッタ成膜が行えた。このことは、ターゲット面の酸化をさせずに十分な酸素を供給できることを示している。そして、80nm/minの堆積速度で安定にTiO_2薄膜が堆積できた.膜の構造と光触媒活性は供給する酸素ガス量に強く依存し、スパッタガスであるArを300sccmの時、酸素ガスを0.5sccm程度加えると非常に高い活性を有する薄膜が得られることが明らかになった。さらに、キセノンランプの照射下でのアセトアルデヒドの分解速度は、アナターゼ型の粉末と同程度を示すことがわかった。
社団法人電子情報通信学会の論文
2003-07-25

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