ガスフロースパッタ法による酸化鉄薄膜の作製(電子部品・材料,及び一般)

スポンサーリンク

概要

論文の詳細を見る
ガスフロースパッタ法は100 Pa程度の高い圧力で行うスパッタであり,スパッタガス流の下流において酸素を添加することにより,ターゲットの酸化を起こさずに酸化物を成膜することが可能である.本研究では,ガスフロースパッタ法により,酸素分圧を約0から4.3 Paまで変化させ酸化鉄薄膜を作製した.その結果,α Feからα Fe_2O_3 までの相を作製することができ,特に酸素分圧1.8×10^<-2>〜4.4×10^<-2> PaにおいてほぼFe_3O_4単相の膜が作製された.これらの試料は100〜120 K においてVerwey転移を示すことが確認された.さらに,基板を300℃まで加熱することにより,よりシャープで120 K に近いVerwey転移を示す膜が作製された.
社団法人電子情報通信学会の論文
2004-07-30

著者

関連論文

もっと見る

スポンサーリンク