ガスフロースパッタ法によるFe_3O_4のGaAs上へのエピタキシャル成長
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
酸化物の半導体基板上へのエピタキシャル成長は一般に困難を伴う.マグネタイト(Fe_3O_4)はハーフメタルの一種として知られており,半導体(特にGaAs)基板上へのエピタキシャル成長はスピントロニクスへの応用において重要である.これまで,Fe_3O_4/GaAsエピタキシャル薄膜はFe/GaAsエピタキシャル薄膜の酸化により作製されてきたが,我々はGaAsの大気中熱処理と独自のガスフロースパッタ法を用いることにより,GaAs上へ直接Fe_3O_4をエピタキシャル成長させることに成功した.本論文では,この方法におけるFe3O_4堆積時の酸素流量の最適化について報告する.
- 2010-07-22
著者
-
石井 清
宇都宮大学工学科機能創成部
-
石井 清
宇都宮大学
-
佐久間 洋志
宇都宮大学
-
佐久間 洋志
東京工業大学総合理工学研究科
-
佐久間 洋志
宇都宮大学大学院電気電子システム工学専攻
-
設楽 裕紀
宇都宮大学大学院工学研究科
-
鍵 康人
宇都宮大学大学院工学研究科
-
鈴木 涼
宇都宮大学大学院工学研究科
関連論文
- STMによる磁性ナノ粒子の磁化反転検出の試み
- SF-112-3 ガスフロースパッタ法により作成した鋸歯状ナノ磁性体による腫瘍細胞リソゾームターゲット療法(分子標的・遺伝子治療2,サージカルフォーラム,第109回日本外科学会定期学術集会)
- ナノ粒子構造Co-Pt/Pt垂直磁化膜に対する下地へのArイオンシャワー効果
- ガスフロースパッタ法により作製したCo-Pt/Pt薄膜の微細構造とアニールの効果
- CS-6-1 PET上への結晶化した低抵抗なITO薄膜の作製(CS-6.薄膜の高機能発現をともなう低温成膜技術の最前線,シンポジウム)
- 「地方大学を取り巻く状況」(NEWS LETTER)
- ガスフロースパッタ法により作製したCo-Pt/Pt膜の磁気特性に対するアニール効果
- ガスフロースパッタ法におけるFeナノ粒子のサイズ制御
- CS-5-2 バイアススパッタ低温結晶化における衝突シースによるイオンのエネルギー逓減効果(CS-5.ナノスケール時代を迎えた薄膜電子材料の展開,エレクトロニクス2)
- ガスフロースパッタ法における低エネルギーイオンアシストによるITO薄膜の低温結晶化(電子部品・材料, 及び一般)
- X線回折およびメスバウアー分光によるFe-Ptナノ粒子の原子配列評価
- ガスフロースパッタ法による光触媒皮膜の作製とその機能性に関する研究
- ガスフロースパッタ法によるCo-Pt/Pt垂直磁化膜の作製
- ガスフロースパッタ法によるFeナノ磁性粉の作製
- ガスフロースパッタ法による酸化鉄薄膜の作製(電子部品・材料,及び一般)
- ガスフロースパッタ法による高保磁力Co-Pt薄膜の作製(磁気記録)
- ガスフロースパッタ法による高保磁力Co-Pt薄膜の作製
- ガスフロースパッタ法によるCo-Pt薄膜への酸素添加効果
- ガスフロースパッタ法によるFe_3O_4薄膜のエピタキシャル成長
- ガスフロースパッタ法による高い光触媒活性を有するTiO_2膜の高速堆積(電子部品・材料, 及び一般)
- グラニュラー磁性体における逆ヒステリシスループ
- ガスフロースパッタ法により低温で作製したAlドープZnO薄膜の電気的・光学的性質の酸素量依存性(材料デバイスサマーミーティング)
- ガスフロースパッタ法により低温で作製したAlドープZnO薄膜の電気的・光学的性質の酸素量依存性(材料デバイスサマーミーティング)
- ガスフロースパッタ法により低温で作製したAlドープZnO薄膜の電気的・光学的性質の酸素量依存性(材料デバイスサマーミーティング)
- C-6-6 ガスフロースパッタ法によるZnO薄膜の作製(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- ガスフロースパッタ法により低温で作製したAlドープZnO薄膜の電気的・光学的性質の酸素量依存性 (機構デバイス)
- FePtナノ粒子粉末の強磁場トルク測定
- FePt微粒子および集積膜の磁気特性(第7回アジア情報記録技術シンポジウム)
- FePt微粒子および集積膜の磁気特性
- 溶液プロセスにより作製したFePt微粒子の磁気緩和
- 溶液プロセスによるFePtナノ粒子と集積薄膜の作製(垂直記録および一般)
- Co-O垂直磁化膜へのPt添加の効果
- 反応性ガスフロースパッタ法による酸化鉄薄膜の構造
- ガスフロースパッタ法とグラニュラー磁性体の合成
- 磁性クラスター分散膜における磁気的相互作用とGMR
- 高配向hcp-Co膜への酸素添加効果
- 磁性ナノ粒子分散系における粒子間相互作用と磁気的性質
- 粒子密度の異なるFe/Agグラニュラー膜の磁気的性質
- クラスター堆積法によるFeナノクリスタル膜作製の可能性
- クラスター堆積法とグラニュラー磁性体の合成
- クラスター堆積法を利用したFeグラニュラー磁性体の新規合成
- GFS法におけるCo薄膜の成長温度と構造-TEMによる微細構造解析-
- クラスター堆積法によるFe/Agグラニュラー膜
- 高速クラスター堆積技術
- 多結晶hcp-Co膜の作製
- スパッタ型Feクラスター源の改良
- Ni-Fe超微粒子とAg蒸気の交互堆積 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- NiFe超微粒子とAg蒸気の交互堆積
- ガスフロースパッタ法によるCo微粒子を含むCu膜の作製
- ガスフロースパッタ法による超微粒子分散膜の作製
- ガスフロースパッタ法によるCo微粒子分散Cu膜
- ガスフロースッパタ法による強磁性微粒子分散膜
- 4)磁気ヘッド用パーマロイ薄膜作製における各種スパッター法の適用(録画研究会(第43回))
- 磁気ヘッド用パーマロイ薄膜作製における各種スパッタ法の適用
- イオンビ-ムスパッタによるTa及びMo薄膜の特性
- イオンビ-ムスパッタによる膜形成技術とその応用
- 高屈折率光導波路用のDy2O3-TiO2系スパッタ膜
- ガスフロースパッタ法によるFe_3O_4のGaAs上へのエピタキシャル成長
- 溶液プロセスによるFePtナノ粒子と集積薄膜の作製
- ダブルペロブスカイト型酸化物Sr_2FeMoO_6の磁気構造
- 完全熱化条件下のスパッタ成膜 : Co膜について
- ガスフロースパッタ法によるCo膜成長の基礎特性
- 雰囲気ガスの流れを利用したスパッタ法
- Q値の自動測定システム(技術談話室)
- GFS法により1Torrレンジでスパッタ成膜したCu膜の電気抵抗
- ガスフロースパッタ法によるL1_0規則化したFePt薄膜における粒子の微細化
- 薄膜作製のイロハ, 真空蒸着法とスパッタリング法
- ガスフロースパッタ法による新奇形状Fe微粒子の作製と粒径制御
- ガスフロースパッタ法により堆積したCoドープTiO_2薄膜の磁気特性と磁気光学特性
- MgO上のFe-Pt薄膜の結晶構造と配向の解析
- 高密度プラズマ環境下のガスフロースパッタ法によるカーボン薄膜の作製(簿膜プロセス・材料,一般)