シリコン融液中における酸素の拡散係数測定(半導体結晶成長II)
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概要
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Has been measured by in house mortified techniqne. BN ampoules covered by SiO_2 cnere used to study. The constant has been found to be around 2×10^<-4>cm^2/sec.
- 日本結晶成長学会の論文
- 2003-07-05
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