29a-ZA-5 Si中のP拡散への酸化および窒化効果の解析

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1999-03-15

著者

• 友景 肇

  福大工

• 友景 肇

  福岡大学

• 高橋 学

  福工大

• 吉田 正幸

  吉田半導体研究所

• 師岡 正美

  福工大

• 植松 真司

  NTT基礎研

• 師岡 正美

  福岡工大工

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