Diffusion Equation of Phosphorus in Silicon Based on the Pair Diffusion Models of Vacancy and Interstitial Mechanisms
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概要
著者
-
田中 秀司
福岡工業大学電子情報工学科
-
吉田 正幸
吉田半導体研究所
-
吉田 正幸
Yoshida Semiconductor Laboratory
-
師岡 正美
福岡工大工
-
師岡 正美
福岡工業大学電気工学科
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