26p-P-1 水素化シリコン表面 : 拡散と動的過程
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1998-09-05
著者
-
宮本 良之
NEC基礎・環境研CNT応用研究センター
-
杉野 修
NEC基礎研
-
押山 淳
筑波大学物理学系・計算物理学研究センター
-
押山 淳
筑波大学物理学系
-
宮本 良之
Necナノエレ研
-
JEONG S.
筑波大学物理学系
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