24aPS-32 Si(111)-(7×7)表面でのSiH_nCl_<4-n>吸着におけるCl置換効果
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2000-03-10
著者
-
山崎 聡
産総研ナノテク部門
-
山崎 聡
JRCAT-融合研
-
安田 哲二
Jrcat-産総研:次世代半導体-産総研
-
西澤 正泰
半導体MIRAI産業技術総合研究所次世代半導体研究センター
-
西澤 正泰
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
-
山崎 聡
筑波大学 電子・物理工学専攻
-
西澤 正泰
JRCAT-産総研
-
山崎 聡
東芝メディカルシステムズ株式会社:jeita超音波専門委員会
-
安田 哲二
Jrcat-nair
-
山崎 聡
Jrcat(アトムテクノロジー研究体)-nair(産業技術融合領域研究所)
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