球状単結晶シリコンの異方性エッチングによるマイクロ形状創成
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概要
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It is known that a high performance micro system for the medical treatment, biotechnology, and nanotechnology etc, become a system where the electric circuit and the sensor are integrated on flat surface and spherical surface etc. In the future, anisotropic etching for spherical single-crystal silicon can be a key technique in order to develop a higher performance micro system. This paper has investigated the result of microstructure fabrication in spherical single-crystal silicon by anisotropic etching, and proposed a selection indicator in the line direction of mask pattern (crystal orientation), which is corresponded to users.
- 社団法人精密工学会の論文
- 2003-07-05
著者
-
森田 昇
富山大学工学部
-
芦田 極
産業技術総合研究所
-
鈴木 庸介
千葉大学大学院
-
森田 昇
千葉大工
-
平井 聖児
ものつくり大学
-
鈴木 庸介
千葉大院
-
平井 聖児
都立高専
-
芦田 極
産総研
-
森田 昇
富山大学大学院理工学研究部
-
平井 聖児
ものつくり大
-
芦田 極
(独)産業技術総合研究所
-
森田 昇
富山大工
-
森田 昇
千葉大学工学部
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