1022 球状単結晶の異方性エッチングによるマイクロ形状創成
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概要
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As for the ball semiconductor, the application to the micromachine is expected in the future. This paper discribes the result of micro structure fablication in spherical single-crystal silicon by anisotropic etching. We propose the selection indicator in the crystal orientation for the micro etching structure fabrication in the ball semiconductor. For instance, when we take the priority to high efficiency as the micro structure design factor, the <110> directions are selected because the etching rate in depth direction is large, and the side etching rate is small.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2002-03-14
著者
-
鈴木 庸介
千葉大学大学院
-
森田 昇
千葉大工
-
平井 聖児
ものつくり大学
-
鈴木 庸介
千葉大院
-
平井 聖児
都立高専
-
芦田 極
産総研
-
森田 昇
富山大学大学院理工学研究部
-
芦田 極
(独)産業技術総合研究所
-
森田 昇
千葉大学工学部
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