二元同時スパッタ法で作製した(CoFeB)-(SiO_2)高電気抵抗膜のGHz透磁率特性
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概要
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- 2000-09-07
著者
-
馬場 誠
東北大・通研
-
山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
-
宗像 誠
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
-
本山 真潮
デルタワークス
-
八木 正昭
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
-
島田 寛
東北大・科学計測研究所
-
馬場 誠
東北大・電気通信研究所
-
山口 正洋
東北大・電気通信研究所
-
荒井 賢一
東北大・電気通信研究所
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