(CoFeB)-(SiO_2)系GHz薄膜磁心の高電気抵抗化
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概要
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- 2001-09-01
著者
-
伊藤 哲夫
Necトーキン(株)
-
八木 正昭
崇城大学(旧名熊本工業大学)エネルギーエレクトロニクス研究所
-
山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
-
八木 正昭
崇城大学(旧名 熊本工業大学)
-
荒井 賢一
東北大学・電気通信研究所
-
宗像 誠
崇城大学(旧熊本工業大学)・エネルギーエレクトロニクス研究所
-
本山 真潮
デルタワークス
-
島田 寛
東北大学・多元物質研究所
-
山口 正洋
東北大学・電気通信研究所
-
伊藤 哲夫
Tohoku-Gakuin Univ.
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