高電気抵抗グラニュラ膜の微細パターン化とそのGHzインダクタへの適用
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概要
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- 1998-12-15
著者
-
山口 正洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
-
伊東 健治
三菱電機株式会社情報技術総合研究所
-
島田 寛
東北大学大学院工学研究科
-
伊東 健治
三菱電機株式会社
-
伊東 健治
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
伊東 健治
三菱電機
-
荒井 賢一
東北大学電気通信研究所
-
末沢 健吉
東北大学電気通信研究所
-
高橋 祐一
東北学院大学工学部
-
菊地 新喜
東北学院大学工学部
-
田邉 信二
三菱電機(株)材料デバイス研究所
-
山口 正洋
東北大学
-
山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
-
荒井 賢一
東北大学
-
田邊 信二
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
末沢 健吉
東北大学通研
-
島田 寛
東北大学
-
菊地 新喜
東北学院大学
-
末永 健吉
東北大学通研
-
田邉 信二
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
田邉 信二
三菱電機(株)
-
田邉 信二
三菱電機
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