スリットパターン化したCoFeB/SiO_2膜の異方性磁界
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
山口 正洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
-
島田 寛
東北大学大学院工学研究科
-
八木 正昭
崇城大学
-
島田 寛
東北大科研
-
島田 寛
東北大・多元研
-
山口 正洋
東北大・工
-
宗像 誠
崇城大学
-
八木 正昭
崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所
-
山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
-
池田 慎治
信州大
-
池田 愼治
信州大学 工学部
-
池田 慎治
東北大
-
島田 寛
東北大
-
宗像 誠
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
-
荒木 和幸
崇城大
-
八木 正昭
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
-
山口 正洋
東北大 通研
-
荒木 和幸
崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所
-
山口 正洋
東北大
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