マイクロパターン化磁性膜の実効静的透磁率
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概要
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- 2002-09-01
著者
-
山口 正洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
-
荒井 賢一
東北大学電気通信研究所
-
山口 正洋
東北大学
-
山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
-
荒井 賢一
東北大学
-
池田 慎治
信州大
-
池田 愼治
信州大学 工学部
-
池田 慎治
東北大
-
池田 愼治
東北大学大学院工学研究科
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