RF磁性薄膜インダクタの閉磁路化プロセス
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
山口 正洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
-
久住 孝幸
秋田県産業技術総合研究センタ
-
山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
-
丹 健二
秋田県高度技術研究所
-
BAE Seok
東北大
-
KIM Ki
東北大
-
久住 孝幸
秋田県高度技術研究所
-
山川 清
秋田県高度技術研究所
-
山口 正洋
東北大 通研
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