マイクロ液体から直接に薄膜デバイスを形成する技術-マイクロ液体プロセス- : 2. 無機薄膜への適用と興味ある応用
スポンサーリンク
概要
著者
-
下田 達也
セイコーエプソン 基盤技術研究所
-
下田 達也
Center For Nano Materials And Technology Japan Advanced Institute Of Science And Technology
-
下田 達也
セイコーエフ゜ソン株式会社 Tprc 第四研究ク゛ルーフ゜
関連論文
- 微小光共振器型有機EL素子と液晶プロジェクタへの応用
- ツボの選択を目的とした負荷動作のweb用三次元CGの開発
- 28pRC-13 SAMsによる有機TFTの界面修飾と両極性トランジスタ(28pRC 分子素子,領域7(分子性固体・有機導体))
- 25aYL-13 金属-絶縁体-有機半導体ダイオードの静電容量測定と有機TFTの特性評価(導電性高分子, 分子デバイス,領域7(分子性固体・有機導体))
- [招待論文]Cat-CVD a-Si:H膜のレーザアニール特性とpoly-Si TFTの作製(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- インクジェット成膜 : 微小液滴の挙動
- インクジェット有機薄膜 (特集 有機エレクトロニクスの新展開)
- SC-6-2 インクジェット描画法で発光層を形成した発光ポリマーディスプレイ
- インクジェット法で発光層を形成した発光ポリマーディスプレイ
- インクジェット法で発光層を形成した発光ポリマーディスプレイ
- インクジェット法で発光層を形成した発光ポリマーディスプレイ
- 24pTC-7 電界発光性高分子を用いた高精細なEL表示体
- 24aZ-10 絶縁性酸化物/導電性酸化物 : 超格子の電子状態
- Organic EL Displays(Session 26, 31, Poster)(Society forInformation Display 99報告)
- Society for Information Display 99 報告 Organic EL Displays (Session 26, 31, Poster)
- 強誘電体メモリ(FeRAM)低電圧駆動化のための課題と対策
- 超臨界法による強誘電体薄膜の形成(物性,成膜,加工,プロセス : 強誘電体薄膜とデバイス応用)
- Extraction Technique of Trap Density at Grain Boundaries in Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistors with Device Simulation
- High-Performance Polyclystalline Silicon Thin-Film Transistors with Low Trap Density at the Gate-SiO2/Si Interface Fabricated by Low-Temperature Process
- Classification of Driving Methods for TFT-OLEDs and Novel Proposal Using Time Ratio Grayscale and Current Uniformization(Electronic Displays)
- マイクロ液体から直接に薄膜デバイスを形成する技術-マイクロ液体プロセス- : 2. 無機薄膜への適用と興味ある応用
- マイクロ液体から直接に薄膜デバイスを形成する技術-マイクロ液体プロセス- : 1. マイクロ液体プロセスの概要と有機デバイスへの適用
- High Performance P-Channel Single-Crystalline Si TFTs Fabricated Inside a Location-Controlled Grain by μ-Czochralski Process(Electronic Displays)
- 表側と裏側の絶縁膜界面にトラップ準位をもつポリシリコン薄膜トランジスタのデバイスシミュレーション(ディスプレイ-IDW'03関連-)
- インクジェット印刷法による有機半導体形成(新しいパターン形成における材料・プロセス技術)
- Extraction of Trap Densities at Front and Back Interfaces in Thin-Film Transistors
- Poly-Si TFT特性の酸化膜界面トラップと結晶粒界トラップに対する依存性およびその製造プロセス診断への応用(半導体Si及び関連材料・評価)
- High-Quality Gate-SiO_x and SiO_x/Si Interface Formation at Low Temperature Using Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
- マイクロ液体プロセスを用いた電子デバイス(フラットパネルディスプレイの製造技術)
- [招待論文]Cat-CVD a-Si:H膜のレーザアニール特性とpoly-Si TFTの作製(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- [招待論文]Cat-CVD a-Si:H膜のレーザアニール特性とpoly-Si TFTの作製(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- Numerical Model of Thin-Film Transistors for Circuit Simulation Using Spline Interpolation with Transformation by y=x + log(x)(Regular Section)
- 多結晶シリコン薄膜トランジスタの絶縁膜-シリコン界面と結晶粒界のトラップ準位の抽出(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- インクジェット技術とソフトマテリアル
- インクジェット印刷法による有機TFTの作製
- インクジェットプリント法による有機トランジスタ
- フッ素系GI-POFを用いた光通信用VCSELモジュール
- TbFeCo/極薄DyFeCo構造における磁界感度特性 (磁気光学・光磁気記録)
- TbFeCo/極薄DyFeCo構造における磁界感度特性
- ポリカーボネート基板における光磁気媒体ノイズの検討
- ポリカーボネート基板における光磁気媒体ノイズ
- PC基板における光磁気媒体ノイズの検討
- 時計用磁石の現状と展望
- 複合化の科学と技術 V.1 プラスチックボンド磁石
- Extraction of Trap State at the Oxide-Silicon Interface and Grain Biundary in Polycrystallune Silicon Thin-Film Transistors
- Device Simulation of Grain Boundaries in Lightly Doped Polysilicon Films and Analysis of Dependence on Defect Density
- 多結晶シリコン薄膜トランジスタの特性解析とシミュレーション
- 多結晶シリコン薄膜トランジスタの特性解析とシミュレーション
- SC-8-13 TFTの高性能化とその応用
- 低温多結晶シリコン薄膜トランジスタ駆動発光ポリマーディスプレイ
- Extraction of Trap States at the Oxide-Silicon Interface and Grain Boundary for Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors : Semiconductors
- Current Density Enhancement at Active Layer Edges in Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors : Semiconductors
- 解説記事 有機トランジスタの進歩
- マイクロ液体から直接に薄膜デバイスを形成する技術-マイクロ液体プロセス- : 3. マイクロ液体プロセスの基礎
- Device Simulation of Carrier Transport through Grain Boundaries in Lightly Doped Polysilicon Films and Dependence on Dopant Density : Semiconductors
- Current Paths over Grain Boundaries in Polycrystalline Silicon Films : Semiconductors
- High-Quality SiO_2/Si Interface Formation and Its Application to Fabrication of Low-Temperature-Processed Polycrystalline Si Thin-Film Transistor(Semiconductors)
- 高密度光磁気記録におけるPRML方式の検討
- Device Simulation of grain Boundaries with Oxide-Silicon Interface Roughness in Laser-Crystallized Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors
- 24.4:Investigation of Hot Carrier Degradation Due to AC Stress in Low Temperature Poly-Si TFTs(発表概要)(Report on 2000 SID International Symposium)
- 希土類ボンド磁石の圧縮成形における圧密挙動
- 希土類ボンド磁石の現状と将来
- Pr置換型Sm2(TM)17系ボンド磁石