A Silicon Shadow Mask with Unlimited Patterns and a Mechanical Alignment Structure by Al-Delay Masking Process (特集:立体的微細加工)
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概要
著者
-
Fujita H
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
-
Mita Yoshio
Limms/cnrs-iis The University Of Tokyo
-
Mita M
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
-
Mita Makoto
Limms/cnrs-iis The University Of Tokyo Crest/jst
-
TIXER Agnes
LIMMS/CNRS-IIS the University of TOKYO
-
OSHIMA Satoshi
LIMMS/CNRS-IIS the University of TOKYO
-
GOUY Jean-philippe
LIMMS/CNRS-IIS the University of TOKYO
-
FUJITA Hiroyuki
LIMMS/CNRS-IIS the University of TOKYO, CREST/JST
-
Mita M
Iis. Univ. Of Tokyo & Crest/jst
-
Fujita H
Limms/cnrs-iis The University Of Tokyo Crest/jst
-
Fujita Hiroyuki
Limms Cnrs-iis University Of Tokyo
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