C_2H_2F_2を用いたプラズマCVD法による撥水性薄膜合成とその密着性の検討
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概要
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- 2008-07-04
著者
-
藤田 寛治
佐賀大学理工学部
-
大津 康徳
佐賀大学理工学部
-
三沢 達也
佐賀大学理工学部
-
和田 憲和
佐賀大学
-
大津 康徳
佐賀大学
-
Fujita Hisanori
Institute Of Laser Engineering Osaka University
-
Fujita H
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
-
藤田 寛治
佐賀大学
-
Fujimori Hiroyasu
Institute Of Material Research Tohoku University
-
三沢 達也
佐賀大学
-
Fujita Hideki
Institute Of Plasma Physics Nagoya University
-
Fujita H
Jfcc
-
Fujita Hideki
Electric Power Research & Development Center Chubu Electric Power Co. Inc.
-
Fujita H
Center For International Research On Micromechatronics (cirmm) Institute Of Industrial Science (iis)
-
Fujita H
Limms/cnrs-iis The University Of Tokyo Crest/jst
-
Fujita Hiroyuki
Inst. Of Industrial Sci. The Univ. Of Tokyo
-
藤田 寛治
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
-
藤田 寛治
佐賀大学理工
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