箕村 茂 | 北大理
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概要
関連著者
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箕村 茂
北大理
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箕村 茂
東大物性研
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東大物性研
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箕村 茂
物性研
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大柳 宏之
東大物性研
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大柳 宏之
東京大学物性研究所
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竹村 謙一
東大物性研
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細谷 資明
東大物性研
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中原 純一郎
北大理
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高橋 博樹
北大理
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東工大・工
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井上 久遠
静大理
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柊 元宏
東工大工
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東大物性研
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電総研
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岡山理大
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東工大工
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埼玉工大
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無機材研
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中村 輝太郎
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電総研
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小島 誠治
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巨海 玄道
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彦坂 正道
都立大理
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岡本 猛雄
東大物性研
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渋谷 元一
静大理
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石館 健男
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片桐 新悟
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伊藤 進一
東洋工芸大工
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浅海 勝征
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法大工
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大貫 惇睦
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高重 正明
物性研
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中村 輝太郎
物性研
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岩見 基弘
阪大工
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藤本 文範
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佐藤 勝昭
農工大工
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梶原 峻
東邦大理
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青木 勝敏
物質工学研
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物性研
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青木 宏
北大理
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都鳥 顕司
北大理
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太刀川 正美
東工大工
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水田 正志
東工大工
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関口 敦
日電アネルバ
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小島 誠治
物性研
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佐藤 守
大阪工業技術試験所
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平賀 隆
日電アネルバ
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平木 昭夫
阪大工
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光井 俊治
帝京大薬
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浜川 圭弘
立命館大学大学院
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星埜 禎男
東大物性研
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佐藤 守
大工試
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田中 一宜
電総研
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細谷 資明
物性研
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Stockli M.p
カンザス州立大
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岩村 国也
法政大工
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浜中 広見
法大工
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若木 政利
物性研
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井村 健
阪大工
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久保田 和芳
阪大工
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青木 勝敏
東大物性研
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酒井 ノブ子
東邦大理
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四方 周輔
東海大札幌
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岩田 深雪
東大物性研
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佐藤 守
大阪工技試
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筑波大物質
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東北大院理
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東大物性研
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小川 信二
電機大工
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北大 理
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北東海大基礎教育系・工
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物性研
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阪大教養
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山田 安定
阪大教養
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清水 立生
金沢大工
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松村 光雄
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高重 正明
東大物性研
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小島 誠治
筑波大物質工
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筑波大物工
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小松原 武美
筑波大物工
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Jasri
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森 昌弘
阪大教養
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広島大 理
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下川 繁三
北大 工
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江良 皓
無機材研
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北大理
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高橋 乙文
物性研
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田沼 静一
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富山大理
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桜井 醇児
広島大学理学部物性学科
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南 不二雄
無機材研
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中田 一郎
東大物性研
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邑瀬 和生
阪大理
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家泰 弘
物性研
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お茶大人間文化
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長坂 道雄
日電アネルバ
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長阪 道雄
日電アネルバ
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川村 春樹
金材技研
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浜中 廣見
法政大学大学院
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本間 和明
東京電機大学工学部応用理化学科
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本間 和明
電機大工
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本間 和明
東京電機大学
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米沢 富美子
京大基研
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福永 敏明
阪大理
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小若 雅彦
阪大基礎工
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浜谷 望
阪大基礎工
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米沢 富美子
日本物理学会
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坂牧 俊夫
物性研
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箕村 茂
電総研
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中島 春雄
北海道大学理学部
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星埜 禎男
筑波大物工
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福井 慶太郎
東亜燃料
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小松 武美
筑波大物質工学系
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玉置 俊平
都立大理
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浜中 廣見
法大工
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箕村 茂
東大物性件
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川田 薫
東大物性研
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浜中 広見
法政大工
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神力 博
東大物性研
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竹村 謙一
東大 物性研
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薬師寺 一幸
阪大理
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柚木 勇
阪大理
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深野 共栄
埼玉工大
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石黒 浩史
物性研
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大柳 宏之
物性研
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藤井 保彦
ブルックヘブン国立研
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佐藤 一幸
都立大理
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桜井 醇児
広島大学理学部
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本間 和明
東京電機大学工学部
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南 不二雄
無機材研:応電研
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杉本 朗
北大理
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加藤 孝正
山梨大工
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新居 美奈子
北大理
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中原 純二郎
北大理
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岡山 泰
北大理
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佐々木 詠子
北大理
著作論文
- 9p-F-9 ヨウ素の高圧金属相の構造
- 29a-P-7 高圧下におけるCeCu_6のNMRII
- 29p-A-2 高圧下における混晶半導体のドナー準位
- 3p-PS-5 Ce(In_Sn_x)_3の格子定数の圧力依存性
- 金原 粲: スパタリング現象; 基礎と薄膜・コーティング技術への応用, 東京大学出版会, 東京, 1984, x+234ページ, 21.5×15.5cm, 2,800円.
- 3a-PS-26 高圧下におけるMS_2(M=Fe,Ni)のラマンスペクトル
- 1a-G-11 高濃度近藤系CeCu_6の電気抵抗と格子定数の圧力効果
- 3a-F-18 GaAlAsの欠陥構造に及ぼす圧力効果
- 3p-Q-11 静水圧下におけるAlGaAs中のDX準位
- 3p-A-8 高圧下におけるAl_xGa_Asのラマン散乱
- 27a-SB-2 同軸円筒型グロー放電装置により作成したa-Si : Hの物性 II
- 30a-B-8 同軸円筒型GD装置により作成したa-Si:Hの物性
- 3a-M-1 X線散漫散乱用新型ダイヤモンド高圧セルの開発と応用I
- 2p-W-11 アモルファスIV-VI族半導体の構造
- 第7回非晶質および液体半導体国際会議
- 4a-A-11 a-Si:HのNMR
- 4a-NL-3 アモルファスSi_Ge_x:HのEXAFS
- 2p-B-1 As_2S_3ガラスの高密度化と光構造変化
- 4p-B-14 RBS 方による非晶質水素化シリコン (a-Si-H) 膜中の水素の深さ方向分布測定とその原理
- 4p-B-13 非晶質 Si-H 膜のイオン後方散乱による characterization II
- 4p-K-8 NaCl構造InSbの電子構造(I)
- 4a-B-9 GaSの圧力誘起ポリタイプ間構造相転移
- 5p-K-11 非晶質GaSbの圧力による構造変化
- 27a-SB-18 ストイキオメトリー・ガラスGe(S, Se)の中距離構造と次元性
- 3p-BJ-11 As_2Te_3 の圧力誘起半導体-金属転移
- 9a-R-2 高圧相Teの結晶構造
- 2a-W-20 GD-a-Si:HとSP-a-Si:Hのプラズマ解析
- 2a-W-21 SP-a-Si:HとGD-a-Si:Hの圧力誘起半導体 : 金属転移
- 30a-T-10 ヨウ素高圧金属相の電気的性質
- 4a-B-14 アクセプタ型グラファイト層間化合物における圧力効果
- 3a GE-10 GaPの圧力誘起半導体 : 金属転移と超伝導転移
- 31a-BD-4 BNNにおける圧力相転移
- 31a-BD-3 高圧下における結晶光学法による相転移の研究
- 12a-PS-8 Ni(S_Se_x)_2系の金属一絶縁体転移と光反射スペクトル
- 13p-PS-37 Si-Ge合金系の格子振動と局所構造
- 13a-E-18 カルコゲナイドガラスの光構造変化と圧力効果
- 29a-M-2 Si-Ge 合金系のラマン散乱
- 2a-B-9 ウルツ型構造の圧力依存性 I
- 31a-F-7 a-Si:H膜の局所原子構造と圧力効果
- 30a-F-9 a-Si:Hのラマン散乱水素効果
- 30a-F-6 a-Si:H作成プラズマのイオン質量分析
- 4a-NL-5 高圧下におけるa-Si:Hのラマン散乱
- 4a-NL-4 高圧下におけるa-Si:Hの物性
- 3a GE-9 NaCl型InSbの圧縮
- 2a GG-10 高圧下転移の光学的研究 III
- 3a-AA-12 NdP_5O_の圧力効果
- 3a-AA-11 高圧下転移の光学的研究II
- 3a-AA-10 高圧下転移の光学的研究I
- 1a-U-8 Cs高圧相(IV)の結晶構造
- 3a-B-9 超高圧下におけるZnOのラマン散乱
- 1p-B-20 アモルファスSi: H合金のX線回折
- 2a-H-12 BaTiO_3のSHGの圧力依存性
- 29p-P-5 結晶および非晶質GeX(X=S, Se)のEXAFS
- 29a-D-1 アモルファス Si-H 合金の圧力誘起非金属-金属転移
- 2a-M-8 低温における EXAFS 測定
- 3a-N-2 300kbar におけるヨウ素の結晶構造
- 31p GK-6 非晶質GeNi系のEXAFS
- 3p GC-8 高圧下におけるヨウ素の構造相転移
- 31p GE-7 非晶質シリコン水素合金スパッタ膜の物性
- 5p-AD-10 PEの高圧下の融解・結晶化挙動
- 4a-AD-8 SSDを用いたEXAFS測定 II
- 3p-AD-5 PSDとダイヤモンドアンビルによる高圧X線回折
- 2a-BF-5 SSDを用いたEXAFSの測定
- 9p-E-11 PEのP-V関係と融解現象(IV)
- 11a-Z-7 NaCl構造InSbのXPS
- 5p-K-12 非晶質Si,Geの高圧相の構造
- 4p-K-9 NaCl構造InSbの安定性
- 7p-S-8 PEのP-V関係と融解現象(III)
- 6p-B-12 X線光電子スペクトル(XPS)による非晶質Geの研究
- 29p-PS-10 高圧下におけるCeCu_6,CeCu_2Si_2のNMR(磁性ポスターセッション)
- 27a-LM-5 間接型Al2Ga_As混晶の吸収端発光の時間分解スペクトルI(イオン結晶・光物性)
- 28a-LN-3 混晶半導体における吸収端発光の温度依存性 I(イオン結晶・光物性)
- 28p-LE-7 高圧下におけるAlGaAs発光 I(半導体)
- 28p-LE-10 In_Ga_xAsyP_のラマンスペクトル(半導体)
- 30a-FB-6 高圧下におけるGa_Al_xAsの光学的性質(30a FB 半導体(光物性・深い不純物・輸送現象・ホットエレクトロン))
- 1a-D1-4 a-Si:Hとa-Si_C_x:Hにおける'HNMRの研究(1a D1 半導体(アモルファス),半導体)
- 29p-LE-10 NbSe_3の高圧下におけるCDWと超伝導(II)(半導体)
- 1p-A3-7 SRによるBiの低温高圧誘起相の研究(1p A3 X線・粒子線,X線・粒子線)
- 3p-E1-8 パイライト型化合物MX_2 (M = Fe, Co, Ni)の高圧下における光反射スペクトル(3p E1 磁性(パイライト))
- 1a-FC-13 a-Si:Hの核スピン緩和(1a FC 半導体(アモルファス))