4p-B-14 RBS 方による非晶質水素化シリコン (a-Si-H) 膜中の水素の深さ方向分布測定とその原理

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1979-09-15

著者

• 箕村 茂

  東大物性研

• 浜川 圭弘

  阪大基礎工

• 岩見 基弘

  阪大工

• 藤本 文範

  東大教養

• 箕村 茂

  北大理

• 佐藤 守

  大阪工業技術試験所

• 平木 昭夫

  阪大工

• 浜川 圭弘

  立命館大学大学院

• 佐藤 守

  大工試

• Stockli M.p

  カンザス州立大

• 田中 一宣

  電総研

• 井村 健

  阪大工

• 久保田 和芳

  阪大工

• 佐藤 守

  大阪工技試

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