末吉 孝 | JEOL
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概要
関連著者
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佐藤 智重
日本電子
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末吉 孝
JEOL
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岩槻 正志
日本電子
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末吉 孝
日本電子
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佐藤 智重
日本電子(株)
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吉村 雅満
豊田工業大学ナノハイテクリサーチセンター
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八百 隆文
東北大学金属材料研究所
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吉村 雅満
広大工
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八百 隆文
広大工
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三木 一司
電総研
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三木 一司
電子技術総合研究所
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徳本 洋志
電総研
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徳本 洋志
アトムテクノロジー研究体-産業技術融合領域研究所
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高岡 克也
広大工
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栃原 浩
九大総理工
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栃原 浩
北大触媒研
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栃原 浩
北大触媒セ
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植杉 克弘
北海道大学電子科学研究所
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植杉 克弘
広大工
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森田 行則
電総研
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森田 行則
アトムテクノロジー研究体-産業技術融合領域研究所
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徳本 洋志
アトムテクノロジー研究体
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天草 貴昭
日本電子(株)
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植杉 克弘
北大 電子科研
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岩槻 正志
日本電子株式会社
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八百 隆文
東北大 学際科学国際高等研究セ
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多賀 康訓
豊田中研
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河合 伸
九大理
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水野 清義
北大触媒セ
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中山 正敏
九大理
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清水 哲夫
独立行政法人産業技術総合研究所
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八木 克道
東工大 理
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徳本 洋志
独立行政法人産業技術総合研究所
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清水 哲夫
電総研
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北村 真一
日本電子株式会社
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鈴木 孝将
物性研
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石山 謙吾
豊田中研
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中村 美道
東京大学大学院工学系研究科
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佐藤 智重
JEOL
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岩槻 正志
JEOL
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鈴木 孝将
東工大 理
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天草 貴昭
日本電子
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中村 美道
九大理
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天草 貴昭
JEOL
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佐藤 智重
日本電子株式会社
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末吉 孝
日本電子データム株式会社
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箕田 弘樹
東工大 理
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谷城 康眞
日本電子
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金子 圭一
東工理大
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谷城 康眞
東工理大
-
蓑田 弘喜
東工理大
-
八木 克道
東工理大
著作論文
- 26a-Y-2 Si(001)表面上ダイマー欠陥のダイナミックス
- 12a-DK-4 Si(100)表面欠陥の高温STM観察
- 13a-Y-9 Si(100)固相エピタキシ過程のSTM観察
- 29p-PSB-10 Si(100)上のTi薄膜の初期成長形態
- 15a-DH-12 シリコン上へのAlの整合吸着相のSTM観察
- 25p-Y-8 STMによるAl/Si(111)超構造の観察 (II)
- 25p-Y-7 STMによるAl/Si(111)超構造の観察 (I)
- 1a-H-10 Si(111)表面における水素脱離 : STM実時間観察
- 25a-Y-11 Si(111)表面の水素脱離過程 : 中間温度域の√×√-R30
- 31p-PSB-22 ステップのあるSi(001)表面のc(4×2)ドメイン形成
- 31p-PSB-25 Ge(001)表面のダイマーのフリップ・フロップ運動のSTMによる観察
- SPMによる表面の計測と加工
- 28p-PSB-22 Si(5 5 12)面のSTM観察
- 28p-WB-4 Si(111)-In 吸着・脱離過程の高温STM観察