植杉 克弘 | 北大 電子科研

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概要

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関連著者

• 植杉 克弘

  北海道大学電子科学研究所

• 植杉 克弘

  北大 電子科研

• 八百 隆文

  東北大学金属材料研究所

• 吉村 雅満

  豊田工業大学ナノハイテクリサーチセンター

• 八百 隆文

  東北大 学際科学国際高等研究セ

• 吉村 雅満

  広島大学工学部

• 滝口 隆晴

  広島大学工学部

• 植杉 克弘

  広大工

• 吉村 雅満

  広大工

• 八百 隆文

  広大工

• 八百 隆文

  東北大金研

• 佐藤 智重

  日本電子

• 末吉 孝

  日本電子

• 岩槻 正志

  日本電子

• 佐藤 智重

  日本電子(株)

• 末吉 孝

  JEOL

• 川口 洋平

  日立製作所・中央研究所

• 川口 洋平

  (株)日立製作所中央研究所

• 松田 端史

  室蘭工業大学

• 栗城 眞也

  北海道大学電子科学研究所

• 松田 瑞史

  室蘭工業大学

• 小村 琢治

  広島大学工学部

• 植杉 克弘

  広島大工

• 吉村 雅満

  広島大工

• 八百 隆文

  広島大工

• 滝口 隆晴

  広大工

• 植杉 克弘

  広島大学工学部

• 八百 隆文

  広島大学工学部

• 小村 琢治

  Jrcat-nair

• 徳本 洋志

  北海道大学電子科学研究所附属ナノテクノロジー研究センター

• 川口 洋平

  北大電子研

• 栗城 眞也

  東京電機大学先端工学研究所

• 松田 瑞史

  室蘭工業大学工学部

• 高岡 克也

  広大工

• 栗城 眞也

  北海道大学

• 川口 洋平

  北海道大学電子科学研究所

• 三上 春樹

  室蘭工業大学工学部

• 徳本 洋志

  北海道大学電子科学研究所

• 川口 洋平

  日立製作所中央研究所

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著作論文

• STMによるSi(111)へのAlCl^3分子の吸着プロセスの観察と反応表面での原子・分子操作
• 走査トンネル顕微鏡によるシリコン固相エピタキシー過程の観察
• 29p-P-3 熱アニールによるシリコン表面欠陥回復過程の高温STM"その場"観察
• アルゴンイオンスパッタSi(001)固相エピタキシ過程のSTMによるその場観察 (原子レベルでの結晶成長機構) -- (成長表面と界面構造)
• STMによるSi表面へのAlCl_3吸着過程の観察と反応表面での原子・分子操作
• 15a-DJ-12 STMによるAlCl_3吸着Si(111)表面の観察
• 12a-DK-4 Si(100)表面欠陥の高温STM観察
• 13a-Y-9 Si(100)固相エピタキシ過程のSTM観察
• 27pC3 アルゴンスパッタ非晶質Si膜の固相エピタキシ過程のSTM観察(気相成長III)
• STMによるシリコン表面の構造評価 (電子材料高度評価技術)
• 高温超伝導薄膜細線への磁束侵入とSQUIDのノイズ特性

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