青柳 英二 | 東北大学金属材料研究所
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概要
関連著者
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青柳 英二
東北大学金属材料研究所
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武山 真弓
北見工業大学電気電子工学科
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野矢 厚
北見工業大学
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野矢 厚
北見工業大学工学部電気電子工学科
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武山 真弓
北見工業大学
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佐藤 勝
北見工業大学電気電子工学科
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武山 眞弓
北見工業大学電気電子工学科
-
佐藤 勝
北見工業大学
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野矢 厚
北見工業大学電気電子工学科
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武山 真弓
北見工業大学工学部電気電子工学科
-
野矢 厚
北見工業大学工学部
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武山 真弓
北見工業大学工学部
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早坂 祐一郎
東北大学金属材料研究所
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糸井 貴臣
北見工業大学電気電子工学科:(現)千葉大学
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佐々木 克孝
北見工業大学
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伊藤 俊
東北大学金属材料研究所
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佐々木 克孝
北見工業大学工学部機能材料工学科
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町田 英明
気相成長(株)
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須藤 弘
気相成長(株)
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平賀 賢二
東北大学金属材料研究所
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平賀 二
東北大学金属材料研究所
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水野 源大
北見工業大学電気電子工学科
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福田 朝之
北見工業大学電気電子工学科
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佐藤 勝取
北見工業大学電気電子工学科
著作論文
- Cu/ZrN/SiOC/Si構造の熱的安定性と界面モフォロジーの検討(薄膜プロセス・材料,一般)
- ZrB_x薄膜の特性評価とCu多層配線への応用
- 3次元Si貫通ビアに適用可能なバリヤ膜の新規成膜手法の有用性 : 低温作製されたZrN_x膜の特性評価
- Cu/ZrN/SiOC/Si構造の熱的安定性と界面モフォロジーの検討
- TDEAV原料を用いたVN_x膜のALD成膜
- ラジカル反応を応用したZrN_x膜の低温作製
- Ta/Si系におけるシリサイド形成過程の検討
- Cu/SiコンタクトにおけるZrNバリヤの構造がバリヤ特性に及ぼす影響
- 高信頼Cu配線のための微結晶ZrNバリヤの適用
- 45nmノード対応の極薄VNバリヤを用いたCu/VN/SiOC/Si構造のナノ界面制御(電子部品・材料, 及び一般)
- Al(001)/YSi2-x/Si(001)系における連続エピタキシャル成長
- C-6-2 ナノ結晶ZrN_x膜の成長過程の検討(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
- 反応性スパッタによるZrN_xナノ結晶バリヤ膜の形成過程
- C-6-4 シリコン貫通ビアに適用可能なバリヤ材料のあり方(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- ナノ結晶組織を有する薄いHfN_x膜のCuに対する拡散バリヤ特性
- シリコン貫通ビアに適用可能なナノ結晶組織を有するHfN_x膜のバリヤ特性
- 反応性スパッタによるZrNxナノ結晶バリヤ膜の形成過程