早坂 祐一郎 | 東北大学金属材料研究所

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概要

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• 東北大学金属材料研究所の論文著者

関連著者

• 早坂 祐一郎

  東北大学金属材料研究所

• 武山 真弓

  北見工業大学電気電子工学科

• 野矢 厚

  北見工業大学工学部電気電子工学科

• 佐藤 勝

  北見工業大学電気電子工学科

• 青柳 英二

  東北大学金属材料研究所

• 武山 眞弓

  北見工業大学電気電子工学科

• 野矢 厚

  北見工業大学電気電子工学科

• 武山 真弓

  北見工業大学工学部電気電子工学科

• 野矢 厚

  北見工業大学工学部

• 武山 真弓

  北見工業大学工学部

• 武山 真弓

  北見工業大学

• 野矢 厚

  北見工業大学

• 佐藤 勝

  北見工業大学

• 青柳 英二

  東北大百万ボルト電顕室

• 青柳 英二

  東北大・百万ボルト電顕室

• 高橋 研

  東北大学工学研究科電子工学専攻

• 島津 武仁

  東北大学工学部

• 進藤 大輔

  東北大学素材工学研究所

• 瀬川 昌幸

  東北大学素材工学研究所

• 谷川 明

  東北大学素材工学研究所

• 青柳 英二

  百万ボルト電子顕微鏡室

• 早坂 祐一郎

  百万ボルト電子顕微鏡室

• 島津 武仁

  東北大 工

• 青柳 英二

  東北大学百万ボルト電子顕微鏡室

• 奥山 健太郎

  東北大学工学部

• 久慈 智子

  東北大学工学部

• 早坂 祐一郎

  東北大学百万ボルト電子顕微鏡室

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著作論文

• IPと超高圧高分解能電子顕微鏡を用いたNi基合金の析出物界面の評価
• ZrB_x薄膜の特性評価とCu多層配線への応用
• 3次元Si貫通ビアに適用可能なバリヤ膜の新規成膜手法の有用性 : 低温作製されたZrN_x膜の特性評価
• ラジカル反応を応用したZrN_x膜の低温作製
• 極清浄スパッタプロセスで作製したNi-Fe薄膜(微細構造と磁気特性)

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