斎藤 幸重 | NEC シリコンシステム研究所

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概要

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関連著者

• 最上 徹

  Nec シリコンシステム研究所

• 斎藤 幸重

  NEC シリコンシステム研究所

• 松木 武雄

  Necマイクロエレクトロニクス研究所

• 小倉 卓

  Necエレクトロニクス株式会社

• 小倉 卓

  (株)genusion

• 若林 整

  NEC

• 若林 整

  NEC(株)システムデバイス研究所

• 五十嵐 信行

  NEC(株)システムデバイス研究所

• 辰巳 徹

  NEC シリコンシステム研究所

• 若林 整

  NECラボラトリーズシステムデバイス・基礎研究本部シリコンシステム研究所

• 國尾 武光

  Necマイクロエレクトロニクス研究所

• 若林 整

  NECマイクロエレクトロニクス研究所

• 斎藤 幸重

  NECマイクロエレクトロニクス研究所

• 最上 徹

  NECマイクロエレクトロニクス研究所

• 若林 整

  ソニー(株)

• 寺井 真之

  早稲田大学

• 寺井 真之

  日本電気株式会社デバイスプラットフォーム研究所

• 岩本 敏幸

  NEC シリコンシステム研究所

• 小倉 卓

  NEC シリコンシステム研究所

• 寺井 真之

  NEC シリコンシステム研究所

• 渡辺 啓仁

  NEC シリコンシステム研究所

• 渡部 平司

  NEC シリコンシステム研究所

• 五十嵐 信行

  NEC シリコンシステム研究所

• 宮村 真

  NEC シリコンシステム研究所

• 西藤 哲史

  NEC シリコンシステム研究所

• 森岡 あゆ香

  NEC シリコンシステム研究所

• 渡部 宏治

  NEC シリコンシステム研究所

• 矢部 裕子

  NEC シリコンシステム研究所

• 五十嵐 多恵子

  NEC シリコンシステム研究所

• 増崎 幸治

  NEC シリコンシステム研究所

• 望月 康則

  NEC シリコンシステム研究所

• 最上 徹

  Nec シリコンシステム研

• 最上 徹

  Necシステムデバイス研究所

• 五十嵐 多恵子

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 森岡 あゆ香

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 五十嵐 信行

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 望月 康則

  Necシステムデバイス研究所

• 渡部 平司

  NECシステムデバイス研究所

• 渡部 宏治

  日本電気株式会社システムデバイス研究所

• 渡辺 啓仁

  日本電気株式会社

• 西藤 哲史

  日本電気株式会社

• 増崎 幸治

  日本電気株式会社

• 岩本 俊幸

  Nec Electronics Corporation

• 辰巳 徹

  日本電気株式会社

• 辰巳 徹

  Nec シリコンシステム研

• Terai Masayuki

  Department Of Applied Physics Waseda University

• 森岡 あゆ香

  NECグリーンイノベーション研究所

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著作論文

• TiSi_2 膜形成における Si表面アモルファス化の効果とSEDAM法
• Poly-Si/HfSiO/SiO_2ゲート構造を用いた低電力、高速HfSiOゲートCMOSFET(IEDM特集:先端CMOSデバイス・プロセス技術)

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