ノボラック系ポジ型レジスト中の感光剤量の相違による現像特性(半導体材料・デバイス)

概要

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ノボラック系ポジ型レジストにおいて,感光剤(Photo Active Compound ; PAC)量がレジストの現像特性に与える影響をSwing Curveの感度E_<th>(60秒で現像できる露光量),振幅,バルク効果(レジスト初期膜厚に対するSwing Curveの傾き)により明らかにした.また,PAC量がレジストの光学特性に与える影響を感光パラメータ(A ; PACの光吸収B;感光後のレジストの光吸収C ; PACの光分解速度)より検討した.レジスト中のPAC量が増加すると光吸収量が増加しE_<th>は増加した.また,PAC量が増加するとレジストへの溶解抑止効果及び溶解促進効果とも高くなり,Swing Curveの振幅は大きくなった.更に,PAC量が増加するとレジスト初期膜厚に対して感光量が増加し,バルク効果は増加した.一方,感光パラメータに関しては,PAC量が増加すると光吸収量が増加し,Aパラメータが大きくなった.また,感光後の感光剤に含まれるベンゾフェノン骨格による光吸収が増加し,Bパラメータについても大きくなった.一方,Cパラメータに関しては,同一のPACを使用しているためほぼ一定となった.
2010-10-01