堀邊 英夫 | 金沢工業大学ものづくり研究所
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概要
関連著者
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堀邊 英夫
金沢工業大学ものづくり研究所
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堀邊 英夫
金沢工大・ものづくり研究所
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堀邊 英夫
金沢工業大学 バイオ・化学部 応用化学科
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河野 昭彦
金沢工業大学ものづくり研究所
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堀邊 英夫
金沢工業大学
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河野 昭彦
金沢工業大学
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山本 雅史
金沢工業大学ものづくり研究所
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太田 裕充
野村マイクロ・サイエンス株式会社
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柳 基典
野村マイクロ・サイエンス株式会社
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堀邊 英夫
高知工業高等専門学校 物質工学科
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藤田 雅之
レーザー技術総合研究所
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中尾 昭和
金沢工業大学
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関口 淳
リソテックジャパン
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田中 初幸
AZエレクトロニックマテリアルズ
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Fujita Masayuki
Yokohama National University Department Of Electrical And Computer Engineering
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吉門 章
東洋精密工業株式会社
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五十嵐 壮紀
金沢工業大学ものづくり研究所
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西山 逸雄
ダイプラ・ウィンテス
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三浦 敏徳
(株)明電舎基盤技術研究所
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花倉 満
(株)明電舎基盤技術研究所
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團野 哲也
高知女子大学
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堀邊 英夫
国立高知工業高等専門学校物質工学科
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高松 慎也
国立高知工業高等専門学校物質工学科
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加藤 大輝
金沢工業大学ものづくり研究所
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矢田 賢司
金沢工業大学ものづくり研究所
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大城 浩徳
金沢工業大学
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柳 基典
野村マイクロ・サイエンス(株)
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吉門 章
東洋精密工業(株)
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高橋 聖司
金沢工業大学
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嘉本 律
有限会社マイクロアナリシスラボ
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安形 行広
金沢工業大学ものづくり研究所
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後藤 洋介
金沢工業大学ものづくり研究所
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小池 国彦
岩谷産業株式会社
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田中 和夫
阪大院工
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羽原 英明
阪大院工
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堀 勝
名古屋大学
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増田 直之
金沢工学・高材センター
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竹井 義法
金沢工大・ものづくり研究所
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南戸 秀仁
金沢工大・ものづくり研究所
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草野 英二
金沢工業大学
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藤田 雅之
(財)レーザー技術総合研究所
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田中 和夫
大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻
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田中 和夫
阪大工阪大レーザー研
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羽原 英明
阪大工阪大レーザー研
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川代 聡
金沢工業大学ものづくり研究所
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羽原 英明
大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻
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増永 啓康
(財)高輝度光科学研究センター
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堀 勝
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
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山本 雅史
金沢工大 大学院工学研究科
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南戸 秀仁
金沢工業大学・工学研究科
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出張 嘉明
金沢工大・高材センター
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片岡 辰雄
島田理化工業
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谷岡 明彦
東京工業大学大学院理工学研究科
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松本 英俊
東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻NEDO特別講座
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神村 共住
大阪工業大学電子情報通信工学科
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市川 智和
国立高知工業高等専門学校物質工学科
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野田 清治
三菱電機 先端総研
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草野 英二
金沢工業大学大学院工学研究科材料設計工学専攻
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増永 啓康
財団法人高輝度光科学研究センター/SPring-8
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Hori Masaru
School Of Engineering Nagoya University
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増永 啓康
高輝度光科学研究センター 利用研究促進部門
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竹井 義法
金沢工業大学
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谷岡 明彦
東工大・工
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松本 英俊
東京工業大学大学院理工学研究科 有機・高分子物質専攻
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松本 英俊
東京工業大学 大学院理工学研究科 有機・高分子物質専攻
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西山 逸雄
ダイプラ・ウィンテス株式会社
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谷岡 明彦
東京工業大学
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佐藤 翼
金沢工業大学
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増永 啓康
高輝度光科学研究センター利用研究促進部門
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竹井 義法
金沢工業大学・高度材料開発研究所
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矢田 賢司
金沢工業大学 ものづくり研究所
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藤田 雅之
(財)レｰザｰ技術総合研究所
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田中 和夫
大阪大学大学院 工学研究科電気電子情報工学専攻
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増田 直之
金沢工大・高材センター
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河野 昭彦
金沢工大・ものづくり研究所
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増永 啓康
高輝度光科学研究セ
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石黒 啓太
金沢工業大学
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谷口 克人
AZエレクトロニックマテリアルズ(株)
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團野 哲也
高知県立大学
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新井 祐
金沢工業大学
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山岸 忠明
金沢大学
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渡邉 誠
金沢工業大学
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石川 健治
名古屋大学
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谷岡 明彦
東京工業大学浸透圧発電研究センター 松本研
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羽原 英明
大阪大学大学院 工学研究科電気電子情報工学専攻
著作論文
- ノボラック系ポジ型レジスト中の感光剤量の相違による現像特性
- 炭酸エチレンを用いたイオン注入レジストの除去
- ハーフトーンマスク用二層レジスト技術の開発
- 炭酸エチレンを用いたイオン注入レジストの除去(半導体材料・デバイス)
- ノボラック系ポジ型レジスト中の感光剤量の相違による現像特性(半導体材料・デバイス)
- 直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)の結晶化度とLLDPE/Ni複合材料の抵抗率-温度特性との関係
- VUV/XUV領域の高次高調波計測のための蛍光体発光特性評価(電子ディスプレイ)
- 超高濃度オゾンガスによるノボラックレジストのアッシング(半導体材料・デバイス)
- 湿潤オゾンを用いたイオン注入レジストの除去技術
- ハーフトーンマスク用多層レジスト技術の開発
- ハーフトーンマスク用二層レジスト技術の開発
- 感光性ポリイミドを用いたプリント基板の開発
- 化学増幅系3成分レジストの開発--露光部の溶解促進によるレジスト高解像度化
- 解説 半導体用化学増幅型レジストの開発
- 半導体用化学増幅ポジ型電子線レジストの開発
- フッ素樹脂とアクリル樹脂からなるブレンド物の紫外線透過特性
- 光導波路デバイス作製のためのリソグラフィー技術の確立
- 高等教育機関における教育のあり方について
- 溶剤による化学増幅ネガ型ノボラックレジストの除去
- 日本の大学・試験・研究機関の研究(182)金沢工業大学 バイオ・化学部 応用化学科 堀邊研究室
- 高濃度オゾンガスによるレジストアッシング--環境に優しいオゾンを用いた感光性樹脂の除去
- オゾンを用いたLCD用レジスト剥離技術 (特集1 環境技術)
- ポリフッ化ビニリデンの溶媒キャスト法による結晶構造の制御
- 樹脂/金属からなる導電性複合材料の温度-抵抗特性 (有機エレクトロニクス)
- 溶剤による化学増幅ネガ型ノボラックレジストの除去
- LCD製造用多層レジスト技術
- レーザーによるレジスト剥離
- レーザーによるレジストの剥離性と基板との密着性
- レｰザｰレジスト剥離装置
- P-105 水晶振動子式匂いセンサの分子認識膜の機能設計(ポスターセッション,2011年度日本味と匂学会第45回大会)
- ノボラック系ポジ型レジストにおけるプリベーク温度が現像特性に及ぼす影響
- PVDF/PMMAブレンドの溶媒キャスト法におけるPVDFの結晶構造制御
- タングステン加熱触媒体により生成した水素ラジカルによるレジスト用ベースポリマーの分解除去
- Study of Chemical Structure and Removal of Positive-Tone Novolak Resist Having Various Prebake Temperature using Wet Ozone
- プリベーク温度の異なるノボラック系ポジ型レジストの湿潤オゾンによる除去性と化学構造