溶剤による化学増幅ネガ型ノボラックレジストの除去
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概要
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炭酸エチレン（Ethylene Carbonate: EC），炭酸プロピレン（Propylene Carbonate: PC）による化学増幅ネガ型ノボラックレジストの除去性を検討した．ネガ型レジストを用いることにより，ポジ型レジストでは困難なレジスト除去時間（レジスト除去速度）を定量的に求めることが可能であることを明らかにした．露光量の増加につれレジストが架橋するため，EC，PCとも除去速度は遅くなった．溶剤温度が同じとき，ECの除去速度はPCのそれに比較し速かった．ECの分子サイズがPCのそれに比較し小さいので，レジストに侵入しやすく溶解させやすいためと考えられる．アレニウス則をEC，PCによるレジスト除去反応に適用することにより，露光量が高いほど，また溶剤の分子サイズが大きいほど，活性化エネルギーが高いことが判明した．
- 社団法人 化学工学会の論文
- 2010-11-20
著者
-
河野 昭彦
金沢工業大学ものづくり研究所
-
堀邊 英夫
金沢工業大学ものづくり研究所
-
太田 裕充
野村マイクロ・サイエンス株式会社
-
柳 基典
野村マイクロ・サイエンス株式会社
-
堀邊 英夫
金沢工業大学 バイオ・化学部 応用化学科
-
矢田 賢司
金沢工業大学ものづくり研究所
-
矢田 賢司
金沢工業大学 ものづくり研究所
-
堀邊 英夫
金沢工大・ものづくり研究所
-
河野 昭彦
金沢工業大学
-
堀邊 英夫
金沢工業大学
-
柳 基典
野村マイクロ・サイエンス(株)
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