リソテックのEUV用レジスト対応脱保護反応解析装置 (特集 リソグラフィ技術)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- ノボラック系ポジ型レジスト中の感光剤量の相違による現像特性
- ノボラック系ポジ型レジスト中の感光剤量の相違による現像特性(半導体材料・デバイス)
- ホトリソグラフィ用化学増幅レジストのシミュレーションパラメータの推算
- 液浸リソグラフィ用レジスト材料の評価技術
- 厚膜レジストにおける実測溶解速度を用いたプロキシミティ・リソグラフィ・シミュレーションの検討
- P.E.B.プロセスにおけるホトレジストの感光剤の拡散長の推算
- ホトレジスト現像パラメータ測定システムの開発
- ホトレジストの感光パラメータ(A,B,C)測定装置の開発
- ホトリソグラフィにおける実測溶解速度を用いたデフォーカスシミュレーションの検討
- 厚膜レジストにおける現像方法の違いによる解像性の検討(電子材料)
- 厚膜レジストの高解像化に関する検討
- レジスト開発用液浸ステッパ「AMPHIBIAN」 (全冊特集 ナノプロセス時代の半導体製造装置)
- 厚膜レダストにおけるプリベーク条件が解像性に与える影響(電子材料)
- 電子線リソグラフィシミュレーション用現像パラメータ測定システムの開発
- リソテックのナノインプリントプロセス最適化技術 SU-8のナノインプリント適用を検証 各工程の温度管理でプロセスを最適化 (特集 ナノインプリント技術)
- EUV対応化学増幅レジストの脱保護反応の解析 (全冊特集 新材料の導入と半導体製造装置) -- (半導体試験・検査・分析装置)
- 離型プロセスを不要としたレプリカ転写プロセス (特設記事 マイクロマシン最前線)
- ナノインプリントにおけるプロセスの最適化技術--ナノインプリント評価装置「LTNIP-5000」 (特集 ナノテクノロジーの開発に有効な解析・評価ツール)
- リソテックのEUV用レジスト対応脱保護反応解析装置 (特集 リソグラフィ技術)
- ノボラック系ポジ型レジストにおけるプリベーク温度が現像特性に及ぼす影響
- ノボラック系ポジ型レジストにおける現像温度とレジスト特性との関係