ホトリソグラフィにおける実測溶解速度を用いたデフォーカスシミュレーションの検討
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概要
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本論文では,ホトレジストの溶解速度の実測値を用いたデフォーカス状態のホトレジストの形状シミュレーションについて報告する.我々は,デフォーカス時のホトレジスト中の光強度分布のモデルとして,Mackらのモデルを採用し,一方,溶解速度については,溶解によるホトレジストの膜厚の変化に伴う干渉光強度の変化から実測し,それらを組み合せて,Mack,Bernardのモデルが妥当であるかどうかをGrindleの手法を改良して検証した.本シミュレーション方法の妥当性を検証するための実験として,i線(365nm)用高解像性ポジ形レジストを用いて,NA0.50i線ステッパでデフォーカス量を変えてパターニングを行って,SEM観察と共にこれに対するシミュレーションを行い,形状の比較を行った.また,合わせてレジスト形状が最良となる場合(いわゆるベストフォーカスの状態),レジスト膜中のどの位置に結像点が存在するのか検討した.その結果,SEM観察結果とシミュレーションによる形状の一致がみられ,プラスデフォーカス時とマイナスデフォーカス時の形状の違いを計算で再現できた.このことは,Mackらのデフォーカスモデルに妥当性があることを示すものと考えられる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-08-25
著者
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