The Effect of an Organic Base in Chemically Amplified Resist on Patterning Characteristics Using KrF Lithography

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1994-12-30

著者

• Kawai Yoshinobu

  Welding Research Institute Osaka University

• Kawai Yoshinobu

  Interdiciplinary Gradate School Of Engineering Sciences Kyushu University

• MATSUDA Tadahito

  NTT LSI Laboratories

• MOROSAWA Tetsuo

  NTT LSI Laboratories

• MATSUDA Tadahito

  NTT System Electronics Laboratories

• Kawai Y

  Welding Research Institute Osaka University

• KAWAI Yoshio

  NTT LSI Laboratories

• Tanaka A

  Department Of Applied Science For Electronics And Materials Graduate School Of Engineering Science

• OTAKA Akihiro

  NTT LSI Laboratories

• TANAKA Akinobu

  NTT LSI Laboratories

• Matsuda T

  Ntt Telecommunications Energy Laboratories

• Matsuda T

  Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn

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