Characteristics of a Monodisperse PHS-Based Positive Resist (MDPR) in KrF Excimer Laser Lithography
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概要
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A new chemically amplified monodisperse PHS-based positive resist (MDPR) has been developed for KrF excimer laser lithography. MDPR is an alkali-developable single-layer resist, composed of partially tBOC-protected PHS, a dissolution inhibitor and a photoacid generator. We used nearly monodisperse PHS synthesized by living polymerization and obtained fine patterning. The MDPR has a high contrast value γ of 4, which results in excellent resolution: the MDPR can easily generate 1 & s patterns down to 0.25 μm in width at 90 mJ/cm^2. A higher sensitivity of 45 mJ/cm^2 and a contrast value γ of 12 were achieved with a blended MDPR.
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1992-12-30
著者
-
河合 良信
九大総理工
-
Kawai Yoshinobu
Welding Research Institute Osaka University
-
MATSUDA Tadahito
NTT LSI Laboratories
-
MATSUDA Tadahito
NTT System Electronics Laboratories
-
KAWAI Yoshio
NTT LSI Laboratories
-
Tanaka A
Department Of Applied Science For Electronics And Materials Graduate School Of Engineering Science
-
河合 良信
Kyushu Univ. Fukuoka
-
TANAKA Akinobu
NTT LSI Laboratories
-
Matsuda T
Ntt Telecommunications Energy Laboratories
-
Matsuda T
Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn
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