Lithographic Performance of a Chemically Amplified Resist Developed for Synchrotron Radiation Lithography in the Sub-100-nm Region

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1999-12-30

著者

• 河合 良信

  九大総理工

• Kawai Yoshinobu

  Welding Research Institute Osaka University

• Kawai Yasunobu

  Interdisciplinary Graduate School Of Engineering Sciences Kyushu University

• Kawai Yoshinobu

  Interdiciplinary Gradate School Of Engineering Sciences Kyushu University

• ODA Masatoshi

  NTT LSI Laboratories

• ODA Masatoshi

  NTT Telecommunications Energy Laboratories

• ODA Masatoshi

  NTT System Electronics Laboratories

• Kawai Y

  Welding Research Institute Osaka University

• Kawai Y

  Kyushu Univ. Fukuoka Jpn

• HORIUCHI Kei

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Kawai Y

  Mitsubishi Materials Silicon Corporation

• DEGUCHI Kimiyoshi

  NTT Telecommunications Energy Laboratories

• FUKUDA Makoto

  NTT Telecommunications Energy Laboratories

• KAWAI Yoshio

  NTT Telecommunications Energy Laboratories

• KOCHIYA Hiroyuki

  NTT Advanced Technology

• USHIYAMA Yukihiko

  NTT Advanced Technology

• NAKAMURA Jiro

  NTT Telecommunications Energy Laboratories

• OHNO Terukazu

  NTT Telecommunications Energy Laboratories

• HAMADA Hiroshi

  NTT Advanced Technology

• SHIMIZU Takashi

  NTT Advanced Technology

• Nakamura Junko

  Central Research Laboratory Hitachi Ltd.

• Fukuda M

  Chitose Inst. Sci. And Technol. Hokkaido Jpn

• 河合 良信

  Kyushu Univ. Fukuoka

• Horiuchi K

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Nakamura J

  Hokkaido Univ. Sapporo Jpn

• Deguchi K

  Department Of Electronics And Information Systems Osaka University

• Nakamura Junichi

  Department Of Electronics Faculty Of Engineering Himeji Institute Of Technology

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