Diffusion Coefficient and Reaction Rate Constant of the SiH_3 Radical in Silane Plasma
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1989-02-20
著者
-
YAMADA Chikashi
Institute for Laser Science, The University of Electro-Communications
-
Kato K
Shizuoka Johoku Senior High School Shizuoka Jpn
-
GOTO Toshio
Department of Quantum Engineering, Nagoya University
-
HIROTA EIZI
Institute for Molecular Science
-
ITABASHI Naoshi
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
-
Itabashi N
Plasma Technology Laboratory Association Of Super-advanced Electronics Technologies(aset)
-
ITABASHI Naoshi
Department of Electronics, Faculty of Engineering, Nagoya University
-
NISHIWAKI Nobuki
Department of Electronics, Faculty of Engineering, Nagoya University
-
KATO Kozo
Department of Electronics, Faculty of Engineering, Nagoya University
-
Nishiwaki Nobuki
Department Of Electronics Faculty Of Engineering Nagoya University
-
Goto Toshio
Department Of Electronics Faculty Of Engineering Nagoya University
-
Hirota E
Guraduate Univ. Advanced Studies Yokohama
-
Yamada Chikashi
Institute For Molecular Science
-
Goto Toshio
Department Of Electronic Mechanical Engineering Nagoya University
-
GOTO Toshio
Department of Agricultural Chemistry, Faculty of Agriculture, Nagoya University
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