顕微-時間分解分光法によるELO-GaNの輻射・非輻射再結合過程の評価
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概要
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励起パルス波長266nm、空間分解能約1μm、時間分解能2psの時間・空間分解フォトルミネッセンス(PL)測定装置を開発した。この実験手法によりさまざまな貫通転位密度のGaN系半導体薄膜の発光再結合過程を評価し、室温ではどの試料においても、A自由励起子による発光が主要であるが非輻射再結合過程により律速されていることが分かった。さらに試料間で非輻射再結合寿命の比較を行うことにより、貫通転位密度と非輻射再結合寿命との間には弱い相関しか認められないことが明らかとなった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-10-22
著者
-
成川 幸男
日亜化学工業
-
中村 修二
日亜化学工業
-
中村 修二
日亜化学工業(株)第二部門開発部
-
中村 修二
カリフォルニア大学サンタバーバラ校材料物性工学部
-
藤田 茂夫
京都大学大学院工学研究科電子工学
-
川上 養一
京都大学大学院工学研究科
-
成川 幸男
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
-
岡本 晃一
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻:科学技術振興機構さきがけ
-
岡本 晃一
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
泉 知明
京都大学大学院工学研究科電子物性工学
-
岡本 晃一
京都大学Venture Business Laboratory
-
中村 修二
日亜化学工業(株)開発部
-
藤田 茂夫
京都大学大学院工学研究科
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