ポリシランの構造制御に関する研究(第2報) : PDHSの温度による結晶構造変化と成膜による構造制御について
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概要
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ポリシランは主鎖のσ電子が非局在化したσ共役高分子であり、この特性を活かした次世代の機能材料として注目されている。今回、ポリジヘキシルシランPDHSの温度による結晶構造変化及び成膜条件と配向性等について、X線回折法と併せ固体NMR等による分子ダイナミックスからのアプローチにより解析検討した結果、およびPDHS摩擦転写膜の配向性についてAFMの結果についても報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-02-06
著者
-
古川 昌司
九州工業大学・大学院情報工学研究科
-
古川 昌司
九州工業大学
-
森 滋
信越化学工業, シリコーン電子材料技術研究所
-
森 滋
信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所
-
荒又 幹夫
信越化学工業(株)群馬事業所
-
福島 基夫
信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所
-
福島 基夫
信越化学工業(株)
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