F-0529 トライボケミカル反応によるナノメータスケールのマスク形成(J17-3 マイクロトライボロジー&プロセッシング(3))(J17 マイクロトライボロジー&プロセッシング)
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概要
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Atomic scale tribo-chemical processing of silicon was performed using an atomic force microscope (AFM). To realize high density devices, possibility of fine etching mask processing which is consistent with nanometer scale tribo-chemical processing of silicon was suggested, and etching properties of mask processed by diamond tip of atomic force microscope were studied.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2001-08-22
著者
-
三宅 正二郎
日本工業大学 工学部
-
金 鍾得
アルバック・ファイ(株)
-
三宅 正二郎
日本工業大学 工学部システム工学科
-
金 鍾得
日本工業大学大学院 工学研究科
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三宅 正二郎
日本工業大学
-
金 鍾得
日本工業大学
-
金 鐘得
日本工業大学工学部
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