ダイヤモンドの高速摺動研磨法の研究 : 第1報 : 単結晶ダイヤモンドの研磨への適用
スポンサーリンク
概要
著者
-
三宅 正二郎
日本工業大学 工学部
-
鈴木 清
日本工業大学
-
岩井 学
富山県立大
-
植松 哲太郎
富山県立大
-
岩井 学
富山県立大学
-
安永 暢男
東海大学
-
三宅 正二郎
日本工業大学 工学部システム工学科
-
安永 暢男
東海大学工学部精密工学科
-
三宅 正二郎
日本工業大学
関連論文
- 新しい研究テーマの発想法におけるセレンディピティの役割 (特集 社会貢献をめざす砥粒加工学会)
- BCN膜の微細構造への大気中熱処理の影響
- キロソニック振動援用クーラントを併用したフレキシブル導液シート法によるインプロセス砥石洗浄の効果
- 超精密微細放電加工機の開発と微細穴研削加工への適用
- PCD工具を利用した放電・研削逐次加工法の開発
- 金属製フレキシブル導液シートによるメタルボンドダイヤモンドホイールの電解インプロセスドレッシング研削
- 多結晶ダイヤモンド焼結体の放電加工への応用に関する研究(第1報) : 各種ダイヤモンド基複合電極による放電加工
- ヘリカルスキャン研削法に関する研究 : 第2報 : 3D-CADモデルによる粗さ改善機構の推定
- 導電性ダイヤモンド素材の除去加工への応用
- 各種多結晶ダイヤモンド焼結体(PCD)電極の放電加工特性
- ヘリカルスキャン研削法に関する研究 : 第1報 : 窒化珪素セラミックスに対するヘリカルスキャン平面研削の効果
- DLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜によるゼロ摩耗,超潤滑への挑戦(トライボロジー/一般)
- シリコンのトライボケミカルナノ加工 : 放電とトライボケミカル反応の比較(トライボロジ, 一般)
- クリーン環境のトライボロシー (第3報) - ダイヤモンド膜形成による滑り摩擦部からの発塵低減効果 -
- マグネトロンスパッタリングで形成したダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜による耐熱性高分子材料の摩擦低減
- ダイヤモンドの高速摺動研磨法の研究 : 第1報 : 単結晶ダイヤモンドの研磨への適用
- 極薄ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜のナノメータスケールの力学特性評価
- 紫外線照射処理および熱処理した磁気ディスク潤滑膜の機械特性の評価
- 極薄ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜のマイクロトライボロジー特性
- ナノ周期積層固体潤滑膜
- 表面のナノ力学特性評価(表面特性評価のためのユニーク計測技術)
- トライボロジー作用を活用したナノメータスケールの加工とその応用展開
- DLC・ダイヤモンド膜の製作技術と適用動向
- プラズマベースイオン注入法で形成されたDLC膜のナノスケール機械特性評価
- 高分子材料同士のトライボロジー特性におけるDLC膜形成の効果
- 改質表面のトライボロジー(ナノ・マイクロトライボロジー)
- ダイヤモンドライクカーボン膜の最新動向と展望
- 原子間力顕微鏡(AFM)高密度メモリｰ
- WS_2/MoS_2/C固体潤滑積層膜の形成とそのトライボロジｰ特性
- フィルタードアークイオンプレーティング法により形成したDLC膜のナノメータスケールの機械特性
- ダイヤモンドライクカーボン膜と炭化ボロン膜のスクラッチ特性に与えるイオン注入の効果
- 潤滑膜形成磁気ディスクのトライボロジー特性の表面温度依存性
- フッ化炭素プラズマ処理シリコン含有ダイヤモンドライクカーボン膜の機械特性
- レーザ後処理によるプラズマ溶射超伝導膜の作成
- ダイヤモンドスライダーによる磁気ディスクの摩耗低減
- ポリカーボネートのフッ化炭素プラズマ処理によるナノ加工の実現とその高密度記録への応用
- MoS_2添加PTFE複合材で潤滑した球面軸受の潤滑特性
- 各種硬質膜形成チップによる微細加工とそのナノスライダへの応用
- 原子間力顕微鏡による層状結晶材料のナノプロセッシングとその高密度記録への応用
- 原子間力顕微鏡によるマイカの1nm深さの標準スケールの形成
- 超硬質膜を成形したチップによるナノ機械加工
- WS2/DLCナノコンポジット膜の形成とそのトライボロジー特性
- 高エネルギーイオンを用いて形成したダイヤモンドライクカーボン膜のマイクロトライボロジー特性
- ナノ周期積層構造を有する導電性固体潤滑膜(トライボロジ, 一般)
- 低エネルギービーム照射による磁気記録用磁性膜の表面改質
- 金属添加DLC膜のスクラッチ特性
- TOF-SIMSによる磁気ディスク摩擦面の解析(第2報) : 潤滑油の分解に対するスライダ材質の影響
- 炭素/窒化ホウ素固体潤滑超格子膜の形成とそのトライボロジー特性(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 窒素イオンビーム照射したDLC膜の機械的特性
- カーボン系薄膜のマイクロトライボロジーとその情報機器への応用の可能性
- シリコンの水による境界潤滑条件下の摩耗損傷と接触応力の関係
- フォースモジュレーション法による磁気ディスク表面の動的変形特性評価(トライボロジ, 一般)
- フォースモジュレーション法による磁気ディスク表面の動的変形特性評価
- フォースモジュレーション法によるPFPE(Perfluoropolyetther)を塗布した磁気ディスクの動的変形特性
- ダイヤモンドのレーザアシスト熱化学加工に関する基礎的研究
- cBNコーテッドタップの試作およびその加工特性
- 原子間力顕微鏡によるマイカのナノメータスケールの機械加工
- クリーン環境のトライボロジー(第2報)-ダイヤモンドライクカーボン膜形成による発塵低減効果-
- クリーン環境のトライボロジー(第1報)-炭化ケイ素系セラミックス材料からの発塵特性-
- シリコンのトライボケミカルナノ加工 : 放電とトライボケミカル反応の比較
- メカノケミカル反応によるシリコンのナノメータ隆起・除去加工とそのエッチングマスクへの応用
- F-0529 トライボケミカル反応によるナノメータスケールのマスク形成(J17-3 マイクロトライボロジー&プロセッシング(3))(J17 マイクロトライボロジー&プロセッシング)
- 3510 超格子膜の微細加工とメモリーへの応用
- シリコンのナノメータ隆起と除去加工
- 原子間力顕微鏡(AFM)によるメカノケミカル隆起加工
- 表面改質
- 表面改質(成膜)技術への導入
- ナノ周期積層膜の磨耗特性を活用したナノ加工技術の開発
- DLC膜, cBN膜のトライボロジーとその応用(最先端薄膜技術)
- 超硬質膜の形成とマイクロトライボロジー
- 低エネルギービーム照射した磁性膜のマイクロ摩耗特性
- 原子間力顕微鏡(AFM)によるシリコンのマイクロ隆起加工
- 窒化炭素/窒化ホウ素超格子積層膜の形成とそのマイクロトライボロジー特性
- 窒素イオン注入ダイヤモンド膜の高温環境下でのトライボロジー
- 日本工業大学 表面工学研究室
- ボロン,炭素,窒素三元素系硬質薄膜の形成とそのトライボロジー特性
- 超硬質薄膜のマイクロ摩耗特性
- 磁性膜のフッ化炭素ビーム処理によるマイクロトライボロジー特性改善効果
- 耗らない膜(膜の機能発見)
- 窒素プラズマ,窒素含有カーボン膜形成複合処理磁性薄膜のマイクロトライボロジー
- イオンビームによるCo-Cr-Ta系磁性薄膜の表面改質
- ダイヤモンドライクカーボン膜およびダイヤモンド膜の高温環境下でのトライボロジー
- 原子間力顕微鏡によるナノメートルスケールの形成
- ダイヤモンドのトライボロジー
- 原子間力顕微鏡によるマイカの機械的ナノリソグラフィー
- c-BN膜の耐摩耗性
- PVD・CVD技術
- 超硬質膜のマイクロトライボロジー
- カーボン系薄膜への物質添加によるトライボロジー特性向上
- 立方晶窒化ホウ素薄膜の形成とその機械的特性
- 超硬質膜とトライボロジー
- 窒素イオン注入シリコンのマイクロ・メゾ・マクロトライボロジー特性
- 機素潤滑設計
- 14.機素潤滑設計 : 14・4 トライボロジー (
- 硬質膜の摩擦・摩耗特性
- 薄膜トライボロジー
- 超硬質膜の極低摩擦特性(超固体潤滑を探る)
- ファイル記憶のトライボロジー
- ナノメータスケールの薄膜形成技術(ナノメータスケールの加工技術-加工界面での化学/物理反応に着目して)
- クリーン環境用軸受(最近の軸受・案内技術)