次世代CMP装置の開発 : 超低圧研磨,ローカル研磨技術の開発(<特集>2003年度(23回)精密工学会技術賞)
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概要
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- 公益社団法人精密工学会の論文
- 2004-06-05
著者
-
林 豊
(株)ニコンcmp事業室開発部
-
宇田 豊
(株)ニコン
-
星野 進
(株)ニコンcmp事業室
-
宇田 豊
(株)ニコンcmp事業室
-
宇根 篤暢
防衛大学校 機械工学科
-
山本 栄一
(株)ニコンCMP事業室プロセス技術課
-
宇根 篤暢
防衛大学校システム工学群機械工学科
-
宇根 篤暢
防衛大学校
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