Electrical characteristics of crystalline HfO_2 high-κ dielectric films deposited on crystalline γ-Al_2O_3 films

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概要

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• 2004-09-15

著者

• 澤田 和明

  豊橋技術科学大学電気・電子工学系

• SAWADA Kazuaki

  Toyohashi University of Technology

• ISHIDA Makoto

  Toyohashi University of Technology

• Shahjahan Mohammad

  Venture Business Laboratory Toyohashi University Of Technology

• Sawada K

  Shizuoka Univ. Hamamatsu

• Ishida M

  Univ. Tsukuba Tsukuba Jpn

• Okada Takayuki

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Toyohashi University Of Technology

• OKADA Takayuki

  Toyohashi University of Technology, Department of Electrical and Electronic Engineering

• SHAHJAHAN Mohammad

  Rajshahi University, Department of Physics

• Okada T

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Toyohashi University Of Technology

• Shahjahan Mohammad

  Rajshahi University Department Of Physics

• Okada Takayuki

  Toyohashi University Of Technology Department Of Electrical And Electronic Engineering

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