エピタキシャルγAl_2O_3/Si基板上のエピタキシャルPZT薄膜を利用した焦電型赤外線センサ
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概要
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- 2005-11-14
著者
-
石田 誠
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
-
澤田 和明
豊橋技術科学大学電気・電子工学系
-
石田 誠
豊橋技術科学大学
-
澤田 和明
豊橋技術科学大学
-
赤井 大輔
豊橋技術科学大学VBL
-
村上 健介
日本セラミック
-
Sawada K
Shizuoka Univ. Hamamatsu
-
Ishida M
Univ. Tsukuba Tsukuba Jpn
-
村上 健介
日本セラミック株式会社研究所
-
山田 哲也
日本セラミック株式会社 八東研究所
-
平林 京介
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
余川 三香子
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系
-
谷口 義晴
日本セラミック株式会社 八東研究所
-
村重 伸一
日本セラミック株式会社 八東研究所
-
中山 直人
日本セラミック株式会社 八東研究所
-
谷口 義晴
日本セラミック
-
村重 伸一
日本セラミック株式会社研究所
-
山田 哲也
日本セラミック 八東研
-
村重 伸一
日本セラミック 八東研
-
中山 直人
日本セラミック 八東研
-
赤井 大輔
豊橋技術科学大学 電気・電子情報工学系
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