低誘電率膜を用いた層間絶縁膜構造における容量シミュレーション
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概要
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- 1995-05-25
著者
-
門村 新吾
ソニー
-
長谷川 利昭
ソニー(株)
-
門村 新吾
ソニー(株)
-
青山 純一
ソニー
-
青山 純一
超lsi研究所
-
青山 純一
ソニー(株)
-
小林 岳史
ソニー(株)
-
門村 新吾
ソニー(株)ssncセミコンダクタテクノロジー開発本部プロセスプラットフォーム部門
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