ユーザーフレンドリーなGUIを有する3次元配線容量/電流密度シミュレーションシステムの開発
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
今日のLSIの微細化に伴い、高密度配線を実現するためにはLSI設計時に配線容量を正確に見積もったり、また配線のコンタクトやビアホールにおける信頼性確保のために電流密度を正確に見積もることが不可欠である。これを可能とするために非常に使い安いGUIを有する3次元配線容量/電流密度シミュレーションシステムを開発した。これにより、ユーザーはスクリーン上でインタラクティブに3次元データを表示させながら配線データを簡単に入力作成できる。このユーザーフレンドリーなシステムにより入力工数が従来に比べて数パーセントに短縮できた。さらにこのシステムは入力の複雑さの為に取扱いが従来不可能であった複雑な構造の入力及びシミュレーションを可能とした。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-09-14
著者
-
小松 康俊
ソニー(株)、sc・超lsi研究所
-
向井 幹雄
ソニー(株)
-
小林 岳史
ソニー(株)
-
Rieger G.
Institute For Microelectronics Tu Vienna
-
小山 一英
ソニー(株)セミコンダクターネットワークカンパニー LSIテクメロジー開発部門 先端デバイス研究室
-
Bauer R.
ハインリッヒハイネ大
-
巽 孝明
ソニー(株)、SC・超LSI研究所
-
中内 庸雅
ソニー(株)、SC・超LSI研究所
-
Bauer R.
Institute for Microelectronics, TU Vienna
-
Selberherr S.
Institute for Microelectronics, TU Vienna
-
小山 一英
ソニー(株)、sc・超lsi研究所
-
Selberherr S.
Institute For Microelectronics Tu Vienna
-
向井 幹雄
ソニー(株)、sc・超lsi研究所
-
小林 岳史
ソニー(株)、sc・超lsi研究所
関連論文
- サブクォータミクロンを有するMONOS型メモリーセルの開発 : ボトム酸化膜へのRTN処理の効果
- 光ファイバを用いた216Mbpsコンポーネントディジタルビデオ信号の伝送実験
- 低誘電率膜を用いた層間絶縁膜構造における容量シミュレーション
- Bulk CMOSと互換性のあるプロセスにて作製した26nm Si層の0.11μm完全空乏型SOI CMOSデバイス
- ユーザーフレンドリーなGUIを有する3次元配線容量/電流密度シミュレーションシステムの開発
- 思い出のタフ・ニゴシエータ(標準化よもやま話20)
- Regional Alterations in Fiber Type Distribution, Capillary Density, and Blood Flow after Lower Jaw Sagittal Advancement in Pig Masticatory Muscles