低エネルギー酸素イオンビームを用いたn型Si(100)基板上への薄いSi酸化膜の形成
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概要
著者
-
岡部 寛
電気通信大学電気通信学部電子情報学科(日立製作所)
-
宇佐美 興一
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
-
小林 忠行
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
-
後藤 俊成
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
-
横尾 邦義
東北大学電気通信研究所
-
横尾 邦義
株式会社イデアルスター
-
後藤 俊成
Department Of Electronic Engineering
-
後藤 俊成
電気通信大学通信工学科
-
後藤 俊成
電気通信大
-
宇佐美 興一
電気通信大学
-
小林 忠行
電気通信大学大学院 電気通信学研究科 電子工学専攻
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