後藤 俊成 | Department Of Electronic Engineering
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概要
関連著者
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後藤 俊成
Department Of Electronic Engineering
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小林 忠行
電通大 大学院電気通信学研究科
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後藤 俊成
電気通信大
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後藤 俊成
電気通信大学通信工学科
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小林 忠行
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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小林 忠行
電気通信大学大学院 電気通信学研究科 電子工学専攻
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宇佐美 興一
電気通信大学
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守屋 雅隆
電子通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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宇佐美 興一
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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守屋 雅隆
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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守屋 雅隆
電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻
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守屋 雅隆
電気通信大学
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宇佐美 興一
Department of Electronic Engineering
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守屋 雅隆
Department of Electronic Engineering
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小林 忠行
Department of Electronic Engineering
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岡部 寛
電気通信大学電気通信学部電子情報学科(日立製作所)
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後藤 俊成
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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朴 賛勲
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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張 蘭
電気通信学大学
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姜 友松
電気通信大学電子工学科
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蔡 旭陽
電気通信大学
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岡本 尚志
Department of Electronic Engineering
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宮原 一紀
東北大学電気通信研究所
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山中 惣之助
電気通信大学実験工学研究室
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蔡 旭陽
電気通信大学 電気通信学部 電子情報学科
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山中 惣之助
電気通信大学
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横尾 邦義
東北大学電気通信研究所
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横尾 邦義
株式会社イデアルスター
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松井 誠一
富士写真フィルム株式会社電子映像事業本部
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山中 惣之助
電気通信大学通信工学科交換工学講座
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鈴木 亮一
電気通信大学電子情報学科
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鶴見 達夫
NTT
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畑中 誠
日本ビクター
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武田 裕二
電気通信大学電子情報学科通信工学講座
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小林 忠行
電通大
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浜田 顕徳
Department of Electronic Engineering
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須藤 貴之
Department of Electronic Engineering
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小池 優作
Department of Electronic Engineering
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三宅 英太郎
Department of Electronic Engineering
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定村 周明
電通大
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張 蘭
電通大
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守屋 雅隆
電通大
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宇佐美 興一
電通大
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後藤 俊成
電通大
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久慈 宝人
電気通信大学
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竹川 智
電気通信学大学
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守屋 雅隆
電気通信学大学
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小林 忠行
電気通信学大学
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後藤 俊成
電気通信学大学
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岡本 尚志
電気通信大学
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齋藤 達也
電気通信大学 電気通信学部 電子情報学科
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岩淵 信
電気通信大学電子情報学科
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後藤 俊成
電気通信大学
著作論文
- 有機物バリヤを用いた高温超伝導トンネル接合の作製と特性
- 低エネルギー酸素イオンビームを用いたn型Si(100)基板上への薄いSi酸化膜の形成
- a軸配向YBCO薄膜を用いた積層構造トンネル接合の作製とその特性の評価
- YBCO薄膜を用いたSIN接合の特性
- YBCO薄膜を用いたブリッジ形弱結合素子の特性
- モザイク状ターゲットをもちいて製作したY系薄膜の 超伝導特性と表面形態
- Alの陽極酸化膜を用いたMIMトンネルエミッタの作製
- 傾斜基盤上に堆積したBi系超伝導薄膜の特性
- Siのプラズマ酸化膜を用いたMIS型トンネルエミッタの作製
- サファイア基板上への高温超伝導体弱結合素子形成
- イオンビームスパッタCeO_2をバッファ層とするサファイア基板上に形成したYBCO薄膜の配向性制御
- 三軸配向YBCO膜による平面型イントリンジックジョセフソン接合の形成
- Bi系傾斜薄膜の作製
- イオンビームスパッタリングによるSrTiO_3/YBa_2Cu_3O_ ヘテロ構造の形成と特性
- 高温超伝導トンネル接合バリア用NiO_x薄膜の形成とヘテロ構造の作製
- 低エネルギーイオンビームクリーニングを用いたNb系超伝導ジョセフソン接合の作製
- Bi系高温超伝導膜への電界効果
- 二陰極スパッタリング装置の放電電流の制御 (第24回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- ストリップライン結合Josephson Junctionのマイクロ波応答
- ストリップライン結合ジョセフソン接合の応答(寄書)
- 二陰極スパッタリング装置の放電電流の制御