低エネルギーイオンビームクリーニングを用いたNb系超伝導ジョセフソン接合の作製
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概要
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バイアススパッタリング法で堆積したNb超伝導薄膜を用いてNb/NbO_x/Pb構造のトンネル接合ジョセフソン素子を作製した.この接合を形成する際のクリーニングプロセスに,これまでよく用いられてきたRFスパッタエッチングに代り,100eV〜400eVの低エネルギーArイオンビームによるエッチングを用いた.そして,素子のI-V特性から求まるギャップパラメータとエッチングエネルギーとの関係を系統的に調べ,接合のクリーニングに適したエッチング条件を実験的に求めた.この結果から,イオンビームを用いた方法はエネルギーの制御が容易であるため最適のイオンエネルギーによるエッチングを行うことができ,RFスパッタクリーニングを用いた場合と比較してギャップ電圧の増加やI-V特性上に見られる電流スパイクの減少が観測された.このようなエネルギーを制御したイオンビームエッチングにより,イオン損傷の少ない接合部のクリーニングが可能となりジョセフソン素子の特性が改善できることがわかった.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-10-25
著者
-
守屋 雅隆
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
-
宇佐美 興一
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
-
小林 忠行
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
-
守屋 雅隆
電子通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
-
後藤 俊成
Department Of Electronic Engineering
-
後藤 俊成
電気通信大学通信工学科
-
後藤 俊成
電気通信大
-
宇佐美 興一
電気通信大学
-
小林 忠行
電通大 大学院電気通信学研究科
-
松井 誠一
富士写真フィルム株式会社電子映像事業本部
-
朴 賛勲
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
-
守屋 雅隆
電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻
-
小林 忠行
電気通信大学大学院 電気通信学研究科 電子工学専攻
-
守屋 雅隆
電気通信大学
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