小林 忠行 | 電通大 大学院電気通信学研究科
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概要
関連著者
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小林 忠行
電通大 大学院電気通信学研究科
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小林 忠行
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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守屋 雅隆
電子通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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小林 忠行
電気通信大学大学院 電気通信学研究科 電子工学専攻
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守屋 雅隆
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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守屋 雅隆
電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻
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守屋 雅隆
電気通信大学
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水柿 義直
電気通信大学 電気通信学部 電子工学科
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水柿 義直
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小林 忠行
電子通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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宇佐美 興一
電気通信大学
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宇佐美 興一
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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水柿 義直
電子通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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水柿 義直
東北大通研 科技団・戦略研
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後藤 俊成
Department Of Electronic Engineering
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水柿 義直
電気通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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後藤 俊成
電気通信大学通信工学科
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後藤 俊成
電気通信大
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河合 章生
電気通信大学
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柏 竜太
電気通信大学
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前澤 正明
産業技術総合研究所
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前澤 正明
電子技術総合研究所
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田中 丈之
電子通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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島田 宏
電気通信大学電気通信学部量子・物質工学科
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田中 丈之
電気通信大学
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島田 宏
電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻
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島田 宏
電気通信大学
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斎藤 淳
電子通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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生田目 洋子
電気通信大学
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波木井 秀充
電気通信大学 電気通信学研究科
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齋藤 淳
東北大学大学院 工学研究科
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宇佐美 興一
Department of Electronic Engineering
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守屋 雅隆
Department of Electronic Engineering
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小林 忠行
Department of Electronic Engineering
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斎藤 淳
電気通信大学
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滝口 将志
電気通信大学電気通信学部電子工学科
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速水 翔太
電気通信大学電気通信学部電子工学科
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大塚 正喜
電気通信大学電気通信学部電子工学科
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前澤 正明
独立行政法人 産業技術総合研究所
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加藤 和行
電気通信大学 電気通信学部 電子工学科
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田村 伸行
電気通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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菊池 健人
電気通信大学大学院電気通信学研究科電子工学専攻
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朴 賛勲
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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張 蘭
電気通信学大学
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姜 友松
電気通信大学電子工学科
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蔡 旭陽
電気通信大学
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岡本 尚志
Department of Electronic Engineering
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菊池 健人
電気通信大学大学院電子工学専攻
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蔡 旭陽
電気通信大学 電気通信学部 電子情報学科
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菊池 健人
電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻
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滝口 将志
電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻
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和田 光司
電気通信大学電子工学科
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安藤 芳晃
電気通信大学大学院電子工学専攻
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岡部 寛
電気通信大学電気通信学部電子情報学科(日立製作所)
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陳 健
南京大学電子科学工学科
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陳 健
南京大学
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後藤 俊成
電気通信大学電気通信学部電子情報学科
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今村 太郎
電気通信大学田野・橋山研究室
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安藤 芳晃
電気通信大学
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和田 光司
電気通信大学
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小林 忠行
電通大・電気通信・電子工学科
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平塚 雅
電気通信大学
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大河 勇樹
電気通信大学
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常盤 貴彦
電気通信大学
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安藤 芳晃
電気通信大学電子工学科
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松井 誠一
富士写真フィルム株式会社電子映像事業本部
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鈴木 亮一
電気通信大学電子情報学科
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鶴見 達夫
NTT
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畑中 誠
日本ビクター
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武田 裕二
電気通信大学電子情報学科通信工学講座
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小林 忠行
電通大
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浜田 顕徳
Department of Electronic Engineering
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須藤 貴之
Department of Electronic Engineering
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小池 優作
Department of Electronic Engineering
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三宅 英太郎
Department of Electronic Engineering
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定村 周明
電通大
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張 蘭
電通大
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守屋 雅隆
電通大
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宇佐美 興一
電通大
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後藤 俊成
電通大
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久慈 宝人
電気通信大学
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竹川 智
電気通信学大学
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守屋 雅隆
電気通信学大学
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小林 忠行
電気通信学大学
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後藤 俊成
電気通信学大学
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岡本 尚志
電気通信大学
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齋藤 達也
電気通信大学 電気通信学部 電子情報学科
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岩淵 信
電気通信大学電子情報学科
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今村 太郎
電気通信大学
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前澤 正明
産総研ナノエレクトロニクス研究部門
著作論文
- ニオブ集積回路における平行線路間の相互インダクタンス評価(超伝導エレクトロニクス)
- Nb集積回路における平行線路間の相互インダクタンス評価(単一磁束量子大規模集積回路技術の現状と将来展望、デジタル応用及び一般)
- 有機物バリヤを用いた高温超伝導トンネル接合の作製と特性
- C-8-3 2ヶ所で接続された2層グラウンド間での磁束量子化と磁気遮蔽効果(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
- C-8-2 Stacked-SQUIDを利用した電圧増倍回路の動作検証(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
- C-8-1 ヒステリシスのないジョセフソン接合を用いた間欠発振器に関する数値計算(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
- C-8-2 分岐器と合流器を用いた単一磁束量子パルス数増倍器の設計(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
- C-8-3 SQUIDスタックを利用した電圧増倍回路セル(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
- 入力離散化器付き単一電子トランジスタおよびターンスタイルの特性(機能ナノデバイス及び関連技術)
- 入力離散化器付き単一電子トランジスタおよびターンスタイルの特性(機能ナノデバイス及び関連技術)
- C-8-1 近似モデルを用いた超伝導薄膜積層構造のインダクタンス計算(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
- C-8-8 2次ステップを利用するジョセフソン電圧増倍回路の多段接続動作(C-8. 超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
- C-8-6 超伝導シールド層の接地間隔による相互インダクタンスの変化(C-8. 超伝導エレクトロニクス,一般セッション)
- C-8-2 超伝導シールド層の接地位置の違いによる相互インダクタンスの変化(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般講演)
- NBCO超伝導薄膜上に堆積したNiO層の特性
- a軸配向NBCO下部電極を用いたランプエッジ接合の電気的特性
- 2次ステップを利用するジョセフソン電圧増倍回路(デジタル,一般)
- C-8-2 非対称2接合SQUIDを用いたゼロ・クロス・ステップの生成(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般講演)
- C-8-1 超伝導体を島電極とする強磁性単電子トランジスタのスピン依存伝導特性(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般講演)
- C-8-3 高次ステップを利用するSFQ電圧増倍回路の設計(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般講演)
- a軸配向NBCO薄膜を用いた膜厚変化形素子の作製1
- 強磁性リード電極を有する単一電子トランジスタでの磁気抵抗比増大効果の観測(ナノ材料・プロセス,機能ナノデバイス及び関連技術)
- 強磁性リード電極を有する単一電子トランジスタでの磁気抵抗比増大効果の観測(ナノ材料・プロセス,機能ナノデバイス及び関連技術)
- DA変換器応用を目指したパルス数可変増倍回路の設計と動作検証(SQUID,一般)
- a軸配向YBCO薄膜を用いた積層構造トンネル接合の作製とその特性の評価
- YBCO薄膜を用いたSIN接合の特性
- YBCO薄膜を用いたブリッジ形弱結合素子の特性
- モザイクタ-ゲットをもちいた基板ホルダバイアスRFスパッタ法によるY-Ba-Cu-O系In Situ薄膜の製作と超伝導特性
- モザイク状ターゲットをもちいて製作したY系薄膜の 超伝導特性と表面形態
- モザイク状タ-ゲットをもちいて製作したY系薄膜の超伝導特性と表面形態
- 超伝導薄膜で磁気分離されたストリップライン間の相互インダクタンス(エレクトロニクス)
- C-8-3 Nb集積回路内の磁気シールド層による相互インダクタンス低減効果(C-8.超伝導エレクトロニクス,エレクトロニクス2)
- Alの陽極酸化膜を用いたMIMトンネルエミッタの作製
- 傾斜基盤上に堆積したBi系超伝導薄膜の特性
- Siのプラズマ酸化膜を用いたMIS型トンネルエミッタの作製
- サファイア基板上への高温超伝導体弱結合素子形成
- イオンビームスパッタCeO_2をバッファ層とするサファイア基板上に形成したYBCO薄膜の配向性制御
- 三軸配向YBCO膜による平面型イントリンジックジョセフソン接合の形成
- Bi系傾斜薄膜の作製
- イオンビームスパッタリングによるSrTiO_3/YBa_2Cu_3O_ ヘテロ構造の形成と特性
- 高温超伝導トンネル接合バリア用NiO_x薄膜の形成とヘテロ構造の作製
- 低エネルギーイオンビームクリーニングを用いたNb系超伝導ジョセフソン接合の作製
- Bi系高温超伝導膜への電界効果