蛍光パターンによる微小電子源ビームの診断:現状と計画
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概要
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微小電子源で生成したビームの断面を、蛍光パターンによって観測して来た。電子源前方1mの距離における観測から、テイップごとの電子放出に差異があること、各ビームレットは位相平面の一直線上に分布すること等、アレイ状電子源の動作の全体像を示す情報が得られた。一方、単一テイップ微小電子源前方2cmにおけるパターンからは、放射がティップの結晶構造を反映していること等が知られた。これらの観測を定量化する為に、画像処理装置を準備中である。次段階では、ビーム及びームレット断面の遠近両位置での計測を併わせ行うことにより、FEGとは異なる微細構造における電子放射の特性を探求する計画である。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-12-11
著者
-
嶋脇 秀隆
八戸工業大学大学院工学研究科
-
横尾 邦義
東北大学電気通信研究所
-
志甫 諒
日本原子力研究所
-
志甫 諒
東京工業大学
-
石塚 浩
福岡工業大学工学部
-
嶋脇 秀隆
東北大学電気通信研究所
-
横尾 邦義
株式会社イデアルスター
-
渡辺 聡彦
日本原子力研究所 那珂研究所 核融合工学部
-
川崎 温
埼玉大学理学部物理学科
-
川崎 温
Japan Atomic Energy Research Institute Fusion Research Establishment
-
川崎 温
埼玉大学理学部
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